抛光颗粒尺度均匀性对射流去除特性的影响.pdf

第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 , 30 1 Vol.30 No.1 年 月 , 2018 1 HIGH POWERLASERANDPARTICLEBEAMS Jan. 2018 抛光颗粒尺度均匀性对射流去除特性的影响* , , 付文静 芈绍桂 张蓉竹 ( , ) 四川大学 电子信息学院 成都 610064 : , , 摘 要 基于单喷嘴射流抛光去除机理 研究了抛光颗粒尺度分布理想均匀时 颗粒直径和抛光液质量 。 , , 分数变化对冲击去除分布的影响 在此基础上 考虑到实际加工过程中 抛光粉颗粒不可避免地存在分布不均 , , , 匀的情况 在非理想不均匀条件下 提出了一种分析颗粒尺度的材料去除特性模型 重点研究了不同颗粒尺度 。 : , , 分布范围对材料去除特性的影响 结果表明 在理想状态下 冲击去除随着抛光颗粒直径的增大而减小 随着 。 , , 抛光液质量分数的增大而增大 当颗粒直径随机分布时 材料去除量将出现明显的波动 抛光液质量分数的增 , , 大使去除量波动也增加 去除量波动的大小与抛光粉颗粒的平均直径直接相关 且与理想均匀状态下的去除特 , 。 性相比 颗粒分布不均匀性使得材料的去除量有所增大 : ; ; ; ; 关键词 抛光颗粒 冲击去除 不均匀性 去除量 质量分数 中图分类号: ; 文献标志码: : / TH16 TH74 A doi10.11884HPLPB201830.170295 , 、 。 现代光学系统对光学元件表面质量要求越来越高 射流抛光技术可以获得高质量 超光滑的光学元件 , , 1988年 荷兰Delft大学的O.W.Fahnle等人首先提出把射流抛光技术应用到光学元件表面上 并通过实验证 [] 1 明射流抛光技术应用于加工精密的光学元件是可行的 。射流抛光技术是近几年发展起来的一种新