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前沿进展
全息离子束刻蚀衍射光栅!
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徐向东 $ $ 洪义麟 $ $ 傅绍军 $ $ 王占山
（!$ 同济大学物理系$ 上海$ %%% ）
（
$ 中国科学技术大学$ 国家同步辐射实验室$ 合肥$ ’%% ）
摘$ 要$ $ 全息离子束刻蚀衍射光栅集中了机械刻划光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的
优点( 全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软) 射线衍射光栅的制作( 文章对全息离子束刻蚀
衍射光栅的制作方法、主要类型、研究现状和应用进行了综述(
关键词$ $ 衍射光栅，全息光刻，离子束刻蚀
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（伪谱线）产生；由于刻刀刀刃微观豁口的存在，其
!$ 引言 杂散光较全息光栅强；刻划光栅刻槽的轮廓为三角
形或梯形，而全息光栅刻槽的轮廓为正弦形或近似
广义地说，凡是能使入射光的振幅、相位，或两 正弦形；刻划光栅提供了更大范围的线密度，几十线
者同时产生周期性空间调制的衍射屏，统称光栅( 通 W FF—X%%% 线W FF ，而全息光栅记录对于 !%%
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