奥氏体不锈钢活性屏低温离子渗碳工艺研究.PDFVIP

中国科技论文在线 奥氏体不锈钢活性屏低温离子渗碳工艺研究 王建青，王璐璐 青岛科技大学机电工程学院等离子体表面技术研究所，山东 青岛 (266061) E-mail: wangjianqing1020@163.com 摘 要: 利用活性屏离子热处理技术对奥氏体不锈钢进行低温离子渗碳(ASPC)处理，可以在 不锈钢表面形成一层无碳化铬析出的碳的过饱和固溶体(Sc 相) 。处理后的奥氏体不锈钢可以 在不降低耐蚀性能的基础上大幅度提高不锈钢表面的硬度，并解决了不锈钢直流离子渗碳温 度均匀性差，工件存在边缘效应等问题，ASPC 渗碳试样表面基本可以保持不锈钢原色。通 过对活性屏上溅射下来的纳米活性粒子显微分析表明，这些粒子是Fe C、Fe C 中性粒子， 3 2 5 在ASPC 中起到渗碳载体的作用，所以ASPC 渗碳的过程也应该是一个溅射