集成电路诉制造技术原理与工艺王蔚习题解答第5单元.docVIP

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  • 2019-01-11 发布于福建
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集成电路诉制造技术原理与工艺王蔚习题解答第5单元.doc

集成电路诉制造技术原理与工艺王蔚习题解答第5单元

复习题 ULSI对多层互连系统的要求? 答:可从金属导电层和绝缘介质层的材料特性,工艺特性,以及互连延迟时间等多个方面来分析ULSI对多层互连系统的要求: 1、缩短互连线延迟时间,通常用电阻电容(RC)常数表征互连线延迟时间,有: 其中,ρ为金属连线的电阻率;l、w、tm分别为金属连线层的长度、宽度和厚度;为ε、tox分别为介质层的介电常数和厚度。 由公式式可知,金属导电层的电阻率越低,绝缘层的介电常数越小,互连线越短,互连线延迟时间也就短,电路速度也就越快。 2、金属导电材料的选取除了要求低电阻率之外,还应抗电迁移能力强,理化稳定性能、机械性能和电学性能在经过后续工艺及长时间工作之后保持不变,最好薄膜淀积和图形转移等加工工艺简单、且经济,制备的互连线台阶覆盖特性好、缺陷浓度低、薄膜应力小。 实际上完全满足上述要求的金属或金属性材料没有。早期的ULSI是采用铝及铝合金作为导电材料。近年来随着工艺技术的发展,铜已成为金属导电材料的首选,在集成度更高的ULSI中有取代铝及铝合金的趋势。 3、绝缘介质材料的选取除了要求介电常数低之外,还应击穿场强高、漏电流低、体电阻率和表面电阻率大(一般均应大于1015Ω·cm),即电学性能好;不吸潮、对温度的承受能力在500℃以上、无挥发性残余物存在,即理化性能好;薄膜材料的应力低、与导电层的附着性好,即兼容性好;薄膜易制备、且缺陷密度低、易刻蚀 简述

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