Q_321182 MA1MKW734 001-2018铜蚀刻液(CTK2000).pdf

Q 江苏和达电子科技有限公司企业标准 Q/321182 MA1MKW734 001—20 18 铜蚀刻液CTK2000 20 18-11-23 发布 2018-11-23 实施 江苏和达电子科技有限公司 发布 Q/321182 MA1MKW734 001-2018 前 言 铜蚀刻液CTK2000是我公司在广泛收集资料的基础上，根据市场需求开发研制，鉴于目前尚无相应 的国家标准和行业标准，特制定出本企业标准，作为组织生产的依据。 本标准按照GB/T 1.1-2009 《标准化工作导则 第1部分：标准的结构和编写》的要求编写。 本标准由江苏和达电子科技有限公司提出并负责起草。 本标准主要起草人：王毅明、朱霞。 本标准于2017-09-01第一次发布、实施。 I Q/321182 MA1MKW734 001-2018 铜蚀刻液CTK2000 1 范围 本标准规定了铜蚀刻液CTK2000的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存等要求。 本标准适用于线路板等铜蚀刻用铜蚀刻液CTK2000。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。 凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T 191 包装储运图示标志 GB/T 6682-2008 分析实验室用水规格和试验方法 GB 15258 化学品安全标签编写规定 3 要求 3.1 外观与性状 本产品为无色透明液体。具有微酸气味、腐蚀性。 3.2 质量指标 3.2.1 铜蚀刻液的质量指标应符合表1 的规定。 表1 质量指标 项目 单位 指标 pH 值 1.7～2.5 氟离子含量 ppm 1300～1900 硝酸含量 % 3.9～4.3 双氧水含量 % 5.5～7.5 粒子数(＞0.5 μm) pcs/ml ＜100 3.2.2 铜蚀刻液中金属离子限量应符合表2 的规定。 4 试验方法 4.1 一般要求 本标准所用试剂和水，在没有注明其他要求时，均指分析纯试剂和GB/T6682-2008 中规定的二级水。 4.2 外观 采用目视法检测。 1 Q/321182 MA1MKW734 001-2018 表2 金属离子限量