激光诱导晶化非晶硅薄膜表面形貌妙与光电性能研究.pptVIP

激光诱导晶化非晶硅薄膜表面形貌与光电性能研究 xxx 课题研究的背景和意义 玻璃衬底ITO上低成本制备低温多晶硅LTPS 等离子增强气相沉积PECVD制备非晶硅薄膜 准分子激光晶化ELC非晶硅a-Si薄膜为多晶硅poly-Si薄膜 制备有源显示器件AMLCD和AMOLED的薄膜晶体管TFT沟道 通过激光晶化非晶硅薄膜制备具有多晶硅光学薄膜层结构的太阳能电池 课题研究的现状及发展趋势 2008年S.R.P.Silva等人，通过激光晶化非晶硅PIN结构的n层为纳米晶硅作为电池光学薄膜，首次报道最高转换效率为2.5% 2009年C.C.Kuo，通过在线光学测试，成功利用激光晶化来控制晶粒大小，调节薄膜光通过率和反射率 通过控制激光能量晶化非晶硅薄膜，从而控制多晶硅光学薄膜层晶粒大小，来调节光透过率、反射率和电池转换效率 课题研究的内容及目标 通过控制激光能量晶化非晶硅薄膜，从而控制多晶硅光学薄膜层晶粒大小，来调节光透过率、反射率和电池转换效率 应用于激光诱导晶化非晶硅薄膜太阳能汽车玻璃，具有可见光透过、防紫外光的功效，还可以为蓄电池充电 不同硅基材料光电性能比较 多晶硅 poly-Si 微晶硅 uc-Si 非晶硅 a-Si 单晶硅 sc-Si 纳晶硅 nc-Si 禁带宽度ev 1.2 1.2~ 1.7 1.7 1.12 2.3 电子迁移率 cm2/V*s 10e2 10e1 10e0 10e3 10e2 转换效率 18% mitsubishi / 15% sanyo 20% Kyocera / 激光能量熔融a-Si薄膜相变潜热 固态非晶硅 液态非晶硅 固液混合硅 密度 g/cm3 2.20 2.53 2.33 比热容C(T) J/g*K C(T)=0.952+0.171*T/1685 热传导K(T) W/cm*K K(T)=4.828*10e-11*(T- 900)e3+4.828*10e-9*(T-900)e2+3.714*10e-6*(T-900)+ 3.714*10e-2 熔融潜热 激光能量熔融a-Si薄膜深度模拟曲线 蝇眼整形激光光斑能量分布模拟 蝇眼整形激光晶化晶粒金相显微图 AFM表征的晶粒与晶界分布图 不同激光功率下的晶粒大小变化 常温下不同激光能量对应的霍尔电子迁移率和电阻率 激光晶化PIN太阳能器件I-V曲线 PIN纳米晶光学薄膜能带结构图 预计的研究难点 研究三种相互关系： 统计不同激光功率与晶粒大小变化关系，经过Seco腐蚀液腐蚀多晶硅表面SEM图 光透过率和反射率变化与晶粒大小的关系 太阳能电池转换效率与光透过率和反射率的变化关系 创新点 首次通过控制激光能量晶化非晶硅薄膜，从而控制多晶硅光学薄膜层晶粒大小，来调节光透过率、反射率和电池转换效率。 应用于激光诱导晶化非晶硅薄膜太阳能汽车玻璃，具有可见光透过、防紫外光的功效，还可以为蓄电池充电 进度计划 2010.1 查找文献 2010.2-2010.3 熟悉设备，制定实验方案 2010.4-2010.6控制工艺参数沉积薄膜 2010.7-2010.10 器件测试并撰写小论文 2010.11-2011.1 总结实验数据撰写毕业大论文 谢谢！ Thank you!