光刻中驻波效应析.pptVIP

下载本文档

115
0
约小于1千字
约 13页
2019-01-19 发布于江苏
举报
版权申诉

光刻中驻波效应析.ppt

1、本文档共13页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

光刻中驻波效应析

报告人：谭先华光刻过程中的驻波效应分析 2010-11-21 驻波效应形成的原因抗蚀剂在曝光过程中由于其折射率和基底材料折射率不匹配，在基底表面产生的反射光和入射光相互干涉而形成驻波。光强的驻波分布使抗蚀剂内的光敏化合物(photo active compound，PAC)的浓度也呈驻波分布，从而使抗蚀剂在显影后边缘轮廓有一定的起伏。抗反射膜衍射效应曝光剂量 3300 rpm for 30 seconds 200nm，正胶：AZ5206E 光谱的宽度抑制驻波效应的方法有 1、采用多波长混合光源进行曝光[3 ] , 这种工艺虽能明显抑制驻波效应, 但这势必引起光刻胶过度曝光, 显然不适合亚微米光刻; 2、采用着色光刻胶是另一种方法,即在光刻胶中添加着色剂(感光机团或吸光剂) 以吸收反射光, 从而弱化驻波效应及光刻胶多重曝光现象。但着色剂同样能吸收入射光, 因此需增加曝光能量, 导致曝光量难以控制。 3、采用ARC (抗反射涂层) 是目前应用较广泛的工艺, 即在光刻胶上或晶片上涂敷一层抗反射膜, 分别称作TARC与BARC (图2) , 亦可同时涂敷TARC 与BARC 驻波效应的抑制用驻波效应做结构消除驻波效应 1、宽频光谱曝光 2、抗反射涂层 3、后烘工艺 4、厚胶工艺产生驻波效应 1、单色光曝光 2、增反层（镀金属膜、抛光的多晶硅） 3、不后烘 3、胶厚在1um以下（500nm）其他的方面 1、曝光剂量适当 2、衍射影响 3、根切效应 4、吸收率低的光刻胶问题 1、断面观察（场扫电镜）？ 2、薄胶获得？ 3、衍射效应的影响？（接触光刻） 4、曝光剂量控制。基本想法 1、正胶500nm 2、反射膜 3、适当的曝光 4、场发射电镜扫描