曝光剂量与体布喇格光栅衍射特性的研究-物理.PDF

第 卷第 期 光 子 学 报 47 7 Vol.47No.7 年 月 2018 7 Jul2018 ACTAPHOTONICASINICA y : / doi10.3788 zx0705002 g 曝光剂量与体布喇格光栅衍射特性的研究 , , 熊宝星 张桂菊 邹快盛 ( , ) 苏州大学 物理与光电?能源学部 江苏 苏州 215006 : “ ” , 摘 要 采用分振幅双光束干涉法和 二步法 热处理工艺 在光热敏折变微晶玻璃中制备了周期 2.1 m μ , 的透射型体布喇格光栅 研究了不同曝光剂量与光栅衍射效率和角度选择性之间的关系 当曝光剂量逐 . / 2 , ; , 渐增至为0.6Jm 时 光栅的衍射效率最高达80.02% 随着曝光剂量的继续增加 光栅的衍射效率逐渐 , / 2 , , 下降 并最终保持稳定 当曝光剂量达到 及以上时 光栅对测试光的吸收变化小于 此时光 . 1.5Jcm 5% 栅的衍射效率趋于稳定 曝光剂量的变化对光栅角度选择性没有明显的影响 分析结果表明随着曝光剂 . . , , , 量增大 光栅中的含银胶团对532nm测试光的吸收加剧 从而使透过的衍射光强减弱 出现衍射效率降 低的现象. : ; ; ; ; 关键词 体布喇格光栅 曝光剂量 吸收 衍射效率 角度选择性 中图分类号: ; 文献标识码: 文章编号: ( ) TN244 TN241 A 1004-4213201807-0705002-7 InfluenceofUV-exosureontheDiffractionCharacteristics p ofVolumeBra Gratin gg g