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液晶显示器设计理论（2） 主要内容 1、液晶显示器件制造工艺流程： ITO图形刻蚀；取向排列；空盒制作；液晶灌注；成品检测与包装 2、设计与制版： 新样品的制作流程；外观图的设计内容；菲林版的设计；菲林版的制作 一、液晶显示器制造具体工艺过程示意 图2 涂光刻胶 图3 曝光 图4 显影 图5 刻蚀 去膜(去光刻胶) 图6 ITO电极 取向排列 图7 涂取向剂 图8 磨擦取向 空盒制作 图9 丝印边框及银点 图10 俯视图 图11 喷衬垫料 图12 对位压合 图13 固化 图14 标盒 液晶灌注 图15 切割与裂片 图16 液晶灌注 图17 封口 成品检测与包装 图18 贴偏振片 二、设计与制版 1、新样品的制作流程 整个过程涉及多个方面的设计： 性能参数的设计； 外形、电极的设计； LCD结构、材料的设计； 掩膜版的设计 2、外观图的设计内容主要包括 1.LCD外形长、宽；可视区长、宽；大、小片玻璃的长、宽;可视区距玻璃边缘尺寸. 2.引线电极的数目;长、宽;间隙;第一根距玻璃边缘的距离. 3.封口的大小、位置.偏光片的外形尺寸. 4.LCD玻璃大片在上还是小片在上;厚度多少. 5.技术条件中几项指标的含义.(Note) 6.显示的段数,即LCD共有多少段需要显示. 7.显示像素的尺寸及位置;引线电极的线宽、线间距(与AuToCAD中的区别). 其次,外观图设计好以后,按照图纸的要求还需要有(除了单粒主视图外)侧视图、逻辑走线表、技术要求(文字表述)、标题栏,这才构成一幅完整的液晶显示器设计图.(这也是本门课程的重点) 外观主视图、侧视图 3、掩膜版的设计 掩膜版：在液晶显示器的生产过程中，需要在导电玻璃的导电层上制成所要求的电极图形，这个过程目前都是用光刻技术来完成的。光刻中要用到具有特定图形的光刻掩膜版。光刻掩膜版分铬板和胶片两种，常用的软性胶片掩膜版，通常称为菲林，习惯上又叫做掩膜。由于使用正性胶故设计成正版图，通过制版方法在胶片上制成与电极图形对应的黑白图案，黑色区域能遮挡光，而透明区域能让光通过，它类似平常所见的黑白照相底片。 五张版：LCD生产工艺中几个比较重要的工序分为光刻、PI涂覆、摩擦、丝印成盒等几个工序。这几个工序中都要用到相应的掩模版。 光刻掩模版：光刻工序是在ITO玻璃上刻出电极图形，其中曝光中所用的掩膜版（称为菲林版）需要设计，因为LCD盒由上、下两层基板组成，所以有上基板光刻掩膜版和下基板光刻掩膜版。需要设计Maskd和Masku两张光刻版。 取向剂掩模版：PI涂覆方式有几种，但目前较流行的是选择涂覆。选择涂覆要用一种凸版，制作凸版需要菲林胶片，这种菲林胶片也需要依LCD而设计。 丝网版：丝印成盒工序需要丝网印刷，丝网印刷所用的丝网制作，也需要两张菲林胶片，一张是印封边框的Seal版，另一张是印导电点的Dot版 菲林版的制作： 版图设计方法 版图设计一般有两种方法： 一种是传统的方法，即“贴红膜 照相 拼版”，先做一组放大的图形（10倍），在同一底图上设计面背电极、边框、银点、凸版版图，将他们贴制成红膜图，然后分一次或两次照相缩版做成与产品尺寸相同单元菲林，最后单元菲林排版制成生产用掩模版． 另一种方法是用计算机绘图软件绘制底图，它是目前最常用的方法。根据这一底图，在不同的层面设计面（背）电极、边框、银点、凸版版图，并通过转换软件将数据转换成光绘数据，由光绘仪直接制成１：１单体菲林，再通过高精度拼版机拼版成为生产用菲林． 液晶显示器设计理论（3） 主要内容： 1、关于液晶显示器设计的标准 关于液晶显示器件名词术语的国家标准； 关于液晶显示器件命名的规则； 关于液晶显示器件外形尺寸标注及引线排布规则 2、电极引线排布方式 段形电极的排布方式； 普通点阵(简单矩阵）的电极排布方式 1、关于液晶显示器设计的标准（1）液晶显示器件名词术语 液晶显示是一项高新技术，又是一门边缘学科。为了深入、准确的理解液晶显示的内涵，有必要先了解有关液晶显示器件的名词术语。国家于1986年制定了《液晶显示器件名词术语》（GB6250-86)的国家标准，这里仅摘录一部分： 液晶层—liquid crystal layer 液晶盒—liquid crystal cell 液晶显示器liquid crystal display device 彩色转换—color switching 彩色显示color display 黑白