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工艺与器件仿真工具SILVACO.pptVIP

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* */118 解决方案命令组 在解决方案命令组中,我们需要使用Log语句来输出并 保存包含端口特性计算结果在内的记录文件,用Solving语句 来对不同偏置条件进行求解,以及用Loading语句来加载结 果文件。这些语句都可以通过Deckbuild:ATLAS Test菜单 来完成。 1 Vds=0.1V时,获得Id~Vgs曲线 下面我们要在NMOS结构中,获得Vds=0.1V时简单的 Id~Vgs曲线。具体步骤如下: 浙大微电子 * */118 在ATLAS Commands菜单中,依次选择Solutions和 Solve…项。Deckbuild:ATLAS Test菜单将会出现,如左 图所示;点击Props…键以调用ATLAS Solve properties菜 单;在Log file栏中将文件名改为“nmos1_”,如右图所示。 完成以后点击OK; 浙大微电子 * */118 将鼠标移至Worksheet区域,右击鼠标并选择Add new row,如下图所示; 一个新行被添加到了Worksheet中,如下图所示; 浙大微电子 * */118 将鼠标移至gate参数上,右击鼠标。会出现一个电极名 的列表。选择drain,如图所示; 点击Initial Bias栏下的值并将其值改为0.1,然后点击 WRITE键; 接下来,再将鼠标移至Worksheet区域,右击鼠标并选 择Add new row; 浙大微电子 * */118 这样就在drain行下又添加了一个新行,如图所示; 在gate行中,将鼠标移至CONST类型上,右击鼠标并 选择VAR1。分别将Final Bias和Delta的值改为3.3和0.1, 如下图所示; 浙大微电子 * */118 点击WRITE键,如下语句将会出现在Deckbuild文本窗 口中,如图所示。 Solve init Solve vdrain=0.1 Log outf=nmos1_0.log Solve name=gate vgate=0 vfinal=3.3 vstep=0.1 浙大微电子 * */118 上述语句以Solve init语句开始。这条语句提供了一个初 始猜想,即零偏置(或热平衡)情况下的电势和载流子浓度。 在得到了零偏置解以后,第二条语句即Solve vdrain=0.1 将会仿真漏极直流偏置为0.1V的情况。如果solve语句没有定 义某电极电压,则该电极电压为零。因此,不需要将所有电极 电压都用solve语句进行定义。 第三条语句是Log语句,即Log outf=nmos1_0.log。这 条语句用来将由ATLAS计算得出的所有仿真结果保存在 nmos1_0.log文件中。这些结果包括在直流仿真下每个电极的 电流和电压。 浙大微电子 * */118 要停止保存这些信息,可以使用带有“off ”的log语句如 log off,或使用不同的log文件名。 最后一条solve语句:Solve name=gate vgate=0 vfinal=3.3 vstep=0.1 使栅极电压从0V变化到3V,间隔为0.1V。注意在这条语 句中Name参数是不能缺少的,而且电极名区分大小写。 2 获取器件参数 在这个仿真中,还要获取一些器件参数,例如Vt,Beta 和Theta。这可以通过ATLAS Extract菜单来完成: 浙大微电子 * */118 在ATLAS Commands 菜单中,依次选择Extract 和Device…项。 Deckbuild:ATLAS Extaction菜单将会出现, 如右图所示;在默认情况 下,Test name栏中选择 的是Vt。用户可以修改默 认的计算表达式; 浙大微电子 * */118 点击WRITE键,Vt Extract语句将会出现在Deckbuild文本窗口中: extract name=“vt”(xintercept(maxslope(curve(abs(v.“gate”), abs(i.“drain”)))) -abs(ave(v.“drain”))/2.0) 下面,继续调用Deckbuild:ATLAS Extaction菜单。然后点击Test name并将其改为Beta,如下图所示; 点击WRITE键,Beta Extract语句将会出现在Deckbuild文本窗口中:

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