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材料表征技术（2） 题： 在德拜图形上获得了某简单立方物质的如下四条衍射线，所给出的sin2?数值均为CuK?1衍射的结果。试用“a-cos2?”图解外推法确定晶格常数，有效数字为4位。 电子显微分析方法 电子显微分析方法(续) 第九章 电子光学基础 1.电子波与电磁透镜 2.电磁透镜的像差与分辨本领(率) 3.电磁透镜的景深和焦长 *光的折射* 光学透镜成像*光的衍射和光学显微镜的分辨本领极限 *光的折射 *光的折射* 光学透镜成像*光的衍射和光学显微镜的分辨本领极限 * 光学透镜成像 *光的折射* 光学透镜成像*光的衍射和光学显微镜的分辨本领极限 *光的衍射和光学显微镜的分辨本领极限 光的衍射 光学显微镜分辨本领理论极限 有效放大倍数 *电子的波性及其波长 *电子在电磁场中的运动和磁透镜 电子在磁场中的运动 *电磁透镜 第九章 电子光学基础 1.电子波与电磁透镜 2.电磁透镜的像差与分辨本领(率) 3.电磁透镜的景深和焦长 9.2电磁透镜的像差与分辨本领 色差： 是由成像电子波长（或能量）变化引起电磁透镜焦距变化而产生的一种像差。 *电磁透镜分辨本领 第九章 电子光学基础 1.电子波与电磁透镜 2.电磁透镜的像差与分辨本领(率) 3.电磁透镜的景深和焦长 9.3 电磁透镜的景深和焦长 *景深：透镜物平面允许的轴向偏差 *焦长：透镜像平面允许的轴向偏差 EM and OM comparison chart 2.结构与工作原理 *电子的波性及其波长 *电磁透镜 9.2电磁透镜的像差与分辨本领 9.3 电磁透镜的景深和焦长 第十章 透射电子显微镜 10.1 透射电子显微镜的结构与成像原理 照明系统 成像系统 图像观察和记录系统 10.2主要部件的结构与工作原理 10.3透射电子显微镜分辨本领与放大倍数的测定 10.1 透射电子显微镜的结构与成像原理 *照明系统 电子枪：透射电子显微镜的电子源 聚光镜 *成像系统 *图象观察和记录系统 第十章 透射电子显微镜 10.1 透射电子显微镜的结构与成像原理 照明系统 成像系统 图像观察和记录系统 10.2主要部件的结构与工作原理 10.3透射电子显微镜分辨本领与放大倍数的测定 电子束倾斜与平移装置 消像散：矫正椭圆形磁场 光阑： 聚光镜光阑：限制照明孔径角 物镜光阑（衬度光阑）：物镜后焦面 选区光阑（视场光阑）：置于样品上面，使电子束只能通过光阑孔限定的微区;但通常位于物镜的像平面位置(?).选取衍射 #聚光镜光阑：限制照明孔径角;位于第二聚光镜下方 第十章 透射电子显微镜 10.1 透射电子显微镜的结构与成像原理 照明系统 成像系统 图像观察和记录系统 10.2主要部件的结构与工作原理 10.3透射电子显微镜分辨本领与放大倍数的测定 10.3透射电子显微镜分辨本领与放大倍数的测定 点分辨本领的测定：蒸发到支撑膜上的金属或合金的粒子（粒度0.5-1nm, 间距0.2-1nm） 晶格分辨本领的测定(单晶薄膜晶格像) 放大倍数的标定 衍射光栅 塑料小球 高倍数（10万倍）:晶格条纹像 第十一章 复型技术 (核)弹性散射截面?n ：?n=? rn2 TEM小孔径角成像 质厚衬度成像原理 质厚成像原理 质厚衬度成像原理 11.3 复型 11.4 萃取复型与粉末样品 粉末样品制备 观察纳米粉体的尺寸和形态 胶粉混合法 支持膜分散粉末法 TEM micrographs of bare SiO2 (a) and core–shell structured SiO2@Gd1.4Eu0.6(WO4)3 (b) particles annealed at 800?°C.by the sol–gel method 11.1 概述 11.2 质厚衬度原理 质厚衬度:建立在非晶试样中原子对入射电子的散射和TEM小孔径角成像基础上的成像原理;解释非晶电子显微图象衬度 单个原子对入射电子的散射 (一个核外电子)非弹性散射截面： ?e=? rn2 一个孤立原子把电子散射到?以外的散射截面?0 ：?0= ?n +Z ?e 原子序数越大，产生弹性散射的比例越大。 弹性散射是透射电子显微镜成像基础；非弹性散射引起的色差将使背景强度增高，图象衬度降低。 散射衬度图像是试样上各部位对电子束散射能力差异所形成的结果。散射能力与试样的厚度(t)、原子量A(原子序数Z)、密度(P)，以及试样对电子的散射截面％(a为物镜光栏所限制的孑L径角)有关。参入成像的电子束强度j可表示为： 式中k为阿佛加德罗常数。 图像上相邻点的反差决定了成像电子束强度差(G)，可表示为： 质厚衬度: Q：每立方厘米包含N个原子的样品的总散射截面；等于N?o