原创力文档第卷第期武汉科技大学学报年月硫化反应生长薄膜的结构和光学性能研究李英龙张仁刚宋力刚卓雯陈书真武汉科技大学理学院湖北武汉摘要以物理气相沉积中的溅射和蒸发方法在玻璃衬底上沉积三层膜结构然后在压力的气氛中退火制备薄膜利用射线衍射仪扫描电子显微镜紫外可见透射光谱对薄膜的晶体结构和光学性质及其生长机理进行研究结果表明在温度下退火时三层膜结构中高活性和容易发生硫化反应形成的薄膜为立方晶体结构沿晶面择优生长其特征吸收边出现在附近在可见光波长范围内薄膜具有约的透光率在温度下退火后再于温度下退火所制薄膜的结晶性得
第 卷第 期 武 汉 科 技 大 学 学 报 ,
39 5 Vol.39No.5
年 月
2016 10 JournalofWuhanUniversitofScienceandTechnolo Oct.2016
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