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第卷第期激光与红外年月文章编号综述与评论硅基光电子学中的材料陈媛媛北京工商大学计算机与信息工程学院北京摘要材料是近年来应用于硅基光电子学中的一种重要的光波导材料本文首先简要介绍了常见的材料的制备方法包括注氧隔离硅键合背面腐蚀和注氢智能剥离等并比较了它们各自的特点和优劣其次介绍了材料加工制造波导的基本工艺包括光刻和刻蚀其中刻蚀又分为干法刻蚀和湿法腐蚀关键词硅基光电子学光波导材料光波导器件中图分类号文献标识码引言的芯片级光互连为实现低损紧凑的波导器件必材料早期主要是应用于微电子学技术中须寻求一种能够
第４１卷 第９期 激 光 与 红 外 Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ．９
２０１１年９月 ＬＡＳＥＲ ＆ ＩＮＦＲＡＲＥＤ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ，２０１１
文章编号：１００１５０７８（２０１１）０９０９４３０５ ·综述与评论 ·
硅基光电子学中的ＳＯＩ材料
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