第2 5卷第10 期 东 北 大 学 学 报 ( 自 然 科 学 版 ) Vol 25 ,No . 10
2 0 0 4 年 10 月 Journal of Nort heastern U niver sity (N at ural Science) Oct . 2 0 0 4
文章编号 : (2004)
( ) 单晶体的生长研究
金红石 TiO2
1 1 2 1
毕孝国 , 修稚萌 , 马伟民 , 孙旭东
( 1. 东北大学 材料与冶金学院 , 辽宁 沈阳 110004 ; 2 . 沈阳大学 基础教学部 , 辽宁 沈阳 11004 1)
摘 要 : 通过对比晶体在不同气氛中生长与退火的结果 ,研究了焰熔法生长金红石单晶体的
工艺条件 结果表明:炉膛气氛是决定晶体能否形成的关键因素 ,在合适的气氛条件下 , 晶体易于
·
( )
生长 ,生长速度范围较宽 ,可以长成较大尺寸的单晶体 ,否则 ,依赖调整 增加或降低 生长速度 ,不
( )
能形成完整的晶体 炉膛气氛中的氧分压大于液固界面 即生长界面 处熔体的氧离解压是生长完
·
整晶体的前提条件 ; 晶体在退火过程中消除热应力 ,但更重要的是氧化反应 ,消除氧空位 ,在氧气
( )
氛中退火 ,可明显缩短退火时间 ,并能获得呈透明状 ,微有浅黄色 金红石本色 的金红石单晶体 ·
关 键 词 : 金红石 ; TiO2 ; 晶体生长 ;焰熔法 ;vernuil ;摇摆曲线
中图分类号 : TN 204 文献标识码 : A
近年来 ,围绕制备金红石单晶体开展了一系 生长速度下 ,晶体生长结果如图2 所示 ·
列研究工作[ 1~9 ] 本文在前期研究的基础上 ,对
·
比晶体在不同气氛中生长和退火结果 ,详细报道
了焰熔法生长金红石单晶体的工艺条件 本实验
·
( ) ( )
以高纯 4N 5 、超细的金红石 TiO2 粉末为起始
原料 , 在焰熔法生长炉 中生长 晶体 采用氢气
·
( ) ( )
H2 和氧气 O2 作为燃料气体 ,定义了所供氢气
φ φ
流量与氧气流量之比这一参数 , 即氢氧比: =
V ( H2) / V (O2 ) ,用以表征气氛中氧的含量 ·
图 1 氢氧比、氧分压及液固界面处的温度关系曲线
1 实 验 Fig. 1 Relation curve among ratio of hydrogen
to oxygen ,oxygen p artial pressure and
原创力文档

文档评论(0)