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化梦媛--助理教授
化梦媛博士,主要研究工作集中在氮化镓功率器件,包括器件工艺与制备,材料表征,
器件物理分析和可靠性、稳定性研究。课题负责人在国际主流会议(如 IEDM ,ISPSD 等)
和高水平期刊(IEEE EDL , IEEE TED 等)发表论文 40 余篇。化梦媛博士自 2018 年 9 月
起加入南方科技大学电子与电气工程系担任助理教授,研究课题将继续集中在新一代宽禁带
半导体器件。
教育经历
2013-2017 :香港科技大学,电子与计算机工程系,博士学位
2009-2013 :清华大学,数学物理基础科学班,学士学位
工作经历
2018.09-至今:南方科技大学,助理教授
2017.09-2018.09 :香港科技大学,电子与计算机工程系,博士后
研究简介
宽禁带半导体器件
氮化镓电力电子器件
半导体器件工艺和制备
半导体器件物理及仿真
可靠性、稳定性研究
研究领域 :
宽禁带半导体器件
所获荣誉
2017 年,最佳青年学术奖,IEEE
代表文章
M. Hua,J. Wei, Q. Bao, Z. Zhang, J. He, Z. Zheng, J. Lei, and K. J. Chen,
Reverse-Bias Stability and Reliability of Hole-Barrier-Free E-mode
LPCVD-SiNx/GaN MIS-FETs, 2017 Int. Electron Device Meeting (IEDM
2017),San Francisco, CA, USA, Dec. 2-6, 2017.
M. Hua, Z. Zhang, J. Wei, J. Lei, G. Tang, K. Fu, Y. Cai, B. Zhang, and K. J. Chen,
Integration of LPCVD-SiNxGate Dielectric with Recessed-gate E-mode GaN
MIS-FETs: Toward High Performance, High Stability and Long TDDB Lifetime,
2016 Int. Electron Device Meeting (IEDM 2016), San Francisco, CA, USA, Dec.
5-7, 2016.
M. Hua, Z. Zhang, Q. Qian, J. Wei, Q. Bao, G. Tang, and K. J. Chen,
High-performance Fully-recessed Enhancement-mode GaN MIS-FETs with
Crystalline Oxide Interlayer, 2017 Int. Symp. On Power Semiconductor Devices
and ICs(ISPSD’17), Charitat Award,Sapporo, Japan, May 28-June 1, 2017.
M. Hua, J. Wei, Q. Bao, Z. Zhang, Z. Zheng, and K. J. Chen, Dependence of
VTHStability on Gate-Bias under Reverse-Bias Stress in E-mode GaN
MIS-FET,IEEE Elec. Dev. Lett., vol. 39, no. 3, pp. 413–416, Jan. 2018.
M. Hua, J. Wei, G. Tang, Z. Zhang, X. Cai, N. Wang, and K. J. Chen, Normally-off
LPCVD-SiNx/GaN MIS-FET with Crystalline Oxidation Interlayer,IEEE Elec. Dev.
Lett., vol. 38, no. 7, pp. 929–932, Jul. 2
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