近距离升华沉积CdTe掺Cd薄膜的微结构和电学光学特性-物理学报.PDF

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近距离升华沉积CdTe掺Cd薄膜的微结构和电学光学特性-物理学报

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 3) ( #$ ( , , , CA; /3) IA /( UN2. #$ ( ) !7%#*R#$R3) ( R%$$7) D+-D ESTGJ+D GJIJ+D ##$ +V:2 / EV=P / GA@ / !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 近距离升华沉积 掺 薄膜的微结构和 !#$ ! 电学、光学特性 ) ) ) ) ) ! ! # ! ! 李 茜 郑毓峰 周向玲 孙言飞 简基康 !)(新疆大学物理科学与技术学院,乌鲁木齐 $%’( ) # )(新疆喀什师范学院物理系,喀什 $’’ ) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) #) ) #( #) !! * 采用近距离升华技术制备了掺杂 元素的 多晶薄膜 利用 射线衍射仪和扫描电子显微镜表征其微结 +, +,-. / 0 构,用霍尔效应测试仪和紫外可见分光光度计分析其电学、光学特性 结果显示,适量的掺杂 元素可改善 / +, +,-. 薄膜晶形,显著提高薄膜的电导特性,由弱的 型电导转变为导电性能良好的 型电导,但对光能隙影响不大 1 2 / 关键词:近距离升华, 薄膜,掺杂 ,电学和光学特性 +,-. +, : , , , %!! $!!3 (!! )%(4 )$(35 分属于 型掺杂,掺杂后仍为 型电导;而且掺杂工 1 1 !B 引 言 艺相对比较复杂,所采用的离子注入法、电沉积法、 溶液浸泡法等均需要制膜—掺杂—后处理三个工艺 7 族半导体材料 +,-.,由于其在光伏器件 流程,且对实验仪器及参数的选择和控制要求较高/ ! 中具有广泛的应用而颇受关注/ +,-. 具有直接跃迁 如果我们对 掺杂 或 元素则属于自掺杂 +,-. +, -. 型禁带,其禁带

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