高功率脉冲磁HPS宣传资料.docVIP

一 高功率脉冲磁控溅射简介 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)利用近兆瓦级的溅射功率，产生极高的离化率，膜层在附着力、硬度、耐磨性、表面形貌等方面均有极好的特性，是国内外磁控溅射领域研究的新热点。其相对具备了传统PVD技术不能兼顾的强附着力与膜层细致的优点，高功率脉冲磁控溅射的技术特点如图2所示。 图1 PVD技术的发展历程 图2 高功率脉冲磁控溅射的技术特点 高功率脉冲磁控溅射可以在磁控溅射、轰击处理等方面有广泛的应用空间，应用范围及应用方式如图3、图4所示。 图3 高功率脉冲磁控溅射的应用范围 图4 高功率脉冲磁控溅射与电源 二 HPS系列电源技术特点与技术指标 高功率脉冲磁控溅射电源(HPS)因其高峰值功率、强电弧抑制、运行稳定性等要求，成为制约HIPIMS发展的重要因素。HPS的技术特点如图5所示，HPS电源的输出特性如图6所示。 图5 HPS电源技术特点(以HPS-2000D为例) 图6 HPS电源的输出特性 我公司历时多年研发HPS电源具有宽的参数调节范围、高达兆瓦的瞬时功率输出、先进的触发方式、人性化的操作界面等特点。HPS电源的技术指标如图7所示。 图7 高功率脉冲磁控溅射电源技术指标 三 HPS系列电源的电弧抑制与薄膜特性 高功率脉冲