增层电路板专业技术准.DOCVIP

增层电路板技术标准 前言 适用范围 定义 3.1构造 3.2主要构造部位的称呼 3.3用语 材料特性 4.1热膨胀系数（TMA法） 4.2机械特性 4.3吸水性 4.4干燥性 4.5离子性不纯物 4.6可透性 4.7相对透电率 基板特性 5.1热膨胀系数 5.2吸水性 5.3干燥性 5.4离子性不纯物 5.5特性阻抗(Impedance) 5.6平坦性 装配加工特性 6.1导体层抗撕强度 ( Peel Strength ) 6.2焊垫抗撕强度 ( Pad Peel Strength ) 6.3装配耐热性实验 信赖性 7.1温度循环实验 7.2高温高湿实验 7.3高温效果 设计相关事项 附录 9.1说明 9.2评价用基板 9.3继续研究工程 前言 本技术标准之目的是,定义使用有机材料之增层电路板之标准概念、用语实验方法等。以强化对搭载裸芯片(Bare Chip)表面装配零件、插脚零件等之基板在设计、制造使用上之共通技术之认识。 适用范围 本标准叙述用在电子产品上，用增层法作成的印刷电路板（以下称增层电路板）之相关事项。在此所称增层电路板是指利用电镀、印刷等法，依序将导体层、绝缘层增加上去的印刷电路板而言。此增层电路板亦包括半导体组装(Package)用基板(载板)。 定义 3.1构造 增层电路板之构造及部位之称呼如图3-1所定义，在此未定义之称呼请参照相关规格(日本工业规格”印刷电路用语”JIS C5603等) 。 3.2构造要素部位之称呼 3.3用语 增层孔(Build up Via)：做为增层电路板之增加层面上孔的总称。亦即增层电路板在导体下方之绝缘层面上做成的孔，用电镀或印刷等法使与其上方导体形成电气接续的构造。 模孔(Conformal Via)：在绝缘层上做出孔的形状，再作成与绝缘层同样高度的导体而形成的孔。 填孔(Filled Via)：在孔内用导电材料充填而成的孔。 迭孔(Stack Via)：是在增层孔上再加上增层孔使在3层以上的各层之间形成电气上的连接孔。 跳孔(Skip Via)：在增加的层里，使不相邻的层间直接连接的孔。 埋孔(Plugged Base Via)：在增层电路板的基材上形成的孔内充填导电材料的镀通孔(PTH) 。 外孔环(Via Top Land) : 在表层的孔环。 孔底环(Via Bottom Land) : 在孔底的环垫。 孔底缝(Via Bottom Trench) : 在孔壁与孔底部间的环沟形状。 雷射孔(Laser Via) : 用雷射制程做成的孔。 光学孔(Photo Via) : 用光学制程做成的孔。 钉柱孔(Stud Via) : 用导电材料堆积成钉柱后再形成的孔。 无环孔(Landless Via) : 孔环的直径小于或等于孔径的孔。 搭载基板(Planar Board) : 搭载裸芯片表面装配零件、插脚零件等的基板，通常在装配后即不再放在其它搭载基板上做加热装配。 模块基板(Module Board) : 搭载裸芯片表面装配零件等，并在装配后再加热装配于其它搭载基板上所用搭载基板。 4.材料特性 4.1热膨胀系数(TMA热机分析) (1)目的 记述增层电路板在增加层上使用的树脂材料的热膨胀系数之测定方法之相关事项。 (2)样品 1.树脂材料 : Film Type 2.尺寸 : 宽5mm X 长 20mm 3.厚度 : 依试样( + 100% 以内 ) 4.硬化条件 : 用成品规格的硬化条件使之硬化(含用紫外线照射的方法) (3)实验设备 热机械分析设备(Thermal mechanical Analyzer : TMA) (4)实验方法 1.准备样品：将Film固定在TMA的夹具上，勿使裂开。 2.测定： 1)对样品尺寸先做测定(或把已知尺寸的样品固定住)。 2)实施韧化(annealing)以消除样品的残留应力，韧化的条件是：室温～玻璃转移温度＋10℃～室温为止，以10℃/分的速度升温，再冷却之。 3)测定：在测定时，在样品上加9.98x0.01N(10g)的拉重，以10℃/分的速度升温，冷却后纪录其变化。 4)计算： 　以4-1式计算出热膨胀系数 CTE=(ΔL/L0)/ΔT --(4-1) CTE=热膨胀系数 L0=样品初期尺寸 ΔL=样品变位 ΔT=温度变化量 分别算出玻璃态转换温度(Tg)以下的CTE(α1)与以上的CTE(α2)，并以图形标示变位状态。 5)注 1.制作样品时，绝缘树脂为液状材料时，在离形性的材料(氟素树脂基板、聚丙烯(Polypropylene)板，玻璃板上所用离型纸等)，上以成品规格所定方法等涂盖树脂，加以干燥硬化来做比较容易。若为膜状材料时，在撕去离型模后，依成品规格所定条件加以硬化。 2.样品要切成短片状时，在像热盘样可加热的板子