J-BT-8946-1999 真空离子镀膜设备.pdfVIP

ICS23.160 J78 中华 人 民共 和 国机 械 行 业 标 准 JB/T 8946一 1999 真空离子镀膜设备 Vacuumioncoatingplant 1999-07-12发布 2000-01-01实施 国 家 机 械 工 业 局 发 布 JB/T 8906- 1999 前 言 本标准由全国真空技术标准化技术委员会提出并归口。 本标准起草单位:沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人:金 石、李春影、李玉英。 中华 人 民共 和 国机械 行业 标 准 JB/T 8946- 1999 真空离子镀膜设备 Vacuumioncoatingplant 范围 本标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则。标志、包装、运输和贮存等 本标准适用于压力在100-10-Pa范围的真空离子镀膜设备 (以下简称设备)，具体包括如下类型: 多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀(HC,D)、射频离子镀(RFIP)、直流放电二极 型 (DCIP)、多阴极型、活性反应蒸发艘 (ARE)、增强型ARE、低压等离子体离子镀 (LFPD)、电场 蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇团离子束镀等。 注:离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被燕发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作 用的同时，把熟发物或其反应物沉积在基片上。 2 引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本 均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 GB/T6070-1995 真空法兰 GB/T川64-1999 真空镀膜设备 通用技术条件 3 技术要求 3.1设备正常工作条件 3.1.1 环境温度 :10C-30Co 3.1.2 相对湿度 :不大于75%o 3.1.3 冷却水进水温度:不高于259Co 3.1.4 冷却水质:城市自来水或相当质量的水。 3.1.5供电电源:380V气相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需要而定); 电压波动范围:342一399V或198-231V; 频率波动范围:49-51Hz. 3.1.6 设备所需的压缩空气，液氮。冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用说明书 中写明。 3.1.7设备周围环境整洁，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘 埃或气体存在。 3.2设备技术参数 3.2.1设备的主要技术参数应符合表l规定。 国家机械工业局 1999-07-12批准 2000-01-01实施 里 JB/T 8946- 1999 分 档 人 B 极限压力 落5x10 S5x10 Pa 抽气时间 (10-7x10-Pa) (10-7x10-Pa) 520