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磁光体调制器的组成如图所示。为了获得线性调制,在垂直于光传播的方向上加一恒定磁场Hdc,其强度足以使晶体饱和磁化。 2-6 光辐射调制概述 磁光调制示意图 科顿-穆顿效应 1907年A.科顿和H.穆顿首先在液体中发现。光在透明介质中传播时,若在垂直于光的传播方向上加一外磁场,则介质表现出单轴晶体(见双折射)的性质,光轴沿磁场方向,主折射率之差正比于磁感应强度的平方。此效应也称磁致双折射。 2-6 光辐射调制概述 克尔磁光效应 入射的线偏振光在已磁化的物质表面反射时,振动面发生旋转的现象,1876年由J.克尔发现。克尔磁光效应分极向、纵向和横向三种,分别对应物质的磁化强度与反射表面垂直、与表面和入射面平行、与表面平行而与入射面垂直三种情形。极向和纵向克尔磁光效应的磁致旋光都正比于磁化强度,一般极向的效应最强,纵向次之,横向则无明显的磁致旋光。克尔磁光效应的最重要应用是观察铁磁体的磁畴(见磁介质、铁磁性)。不同的磁畴有不同的自发磁化方向,引起反射光振动面的不同旋转,通过偏振片观察反射光时,将观察到与各磁畴对应的明暗不同的区域。用此方法还可对磁畴变化作动态观察。 2-6 光辐射调制概述 塞曼效应 发光体放在磁场中时,光谱线发生分裂的现象。是由于外磁场对电子的轨道磁矩和自旋磁矩的作用,或使能级分裂才产生的。其中谱线分裂为2条(顺磁场方向观察)或3条(垂直于磁场方向观察)的叫正常塞曼效应;3条以上的叫反常塞曼效应。塞曼效应在化学分析、磁场测量中有重要应用。 2-6 光辐射调制概述 * * * 调制盘的扫描方式: 旋转式——调制盘绕光轴转动 圆锥扫描式——调制盘不动,光学系统像点作圆周运动 圆周平移式——调制盘绕光轴作圆周平移扫描 脉冲调宽调制盘 光点扫描式调幅调制盘 旋转调频调制盘 2-6 光辐射调制概述 莫尔(Moire)一词在法文中的原意是表示水波纹或波状花纹。当薄的两层丝绸重叠在一起并作相对运动时,则形成一种漂动的水波型花纹,当时就将这种有趣的图案叫做莫尔条纹。 任何两组(或多组)有一定排列规律的几何线族的叠合,均能产生按新规律分布的莫尔条纹图案。 1874年英国物理学家瑞利首次将莫尔条纹作为一种测量手段,根据条纹形态来评价光栅尺各线纹间的间隔均匀性,从而开创了莫尔测试技术。随着光刻技术和光电子技术水平的提高,莫尔技术获得较快发展,在位移测试、数字控制、伺服跟踪、运动比较等方面有广泛的应用。 莫尔条纹现象已成为一种精确的检测手段,应用于光电测量技术中。 在莫尔测试技术中,通常利用两块光栅(称做光栅付)或光栅的两个像的重叠产生莫尔条纹,以获取各种被测量的信息。 莫尔条纹 2-6 光辐射调制概述 播放中…… 1. 圆弧莫尔条纹 单击准备演示 播放动画 莫尔条纹举例 2-6 光辐射调制概述 2. 光闸莫尔条纹 播放动画 播放中…… 莫尔条纹举例 2-6 光辐射调制概述 单击准备演示 3. 辐射形莫尔条纹 播放动画 莫尔条纹举例 2-6 光辐射调制概述 4. 长光栅莫尔条纹 播放动画 莫尔条纹举例 2-6 光辐射调制概述 5. 长光栅光闸莫尔条纹 播放动画 莫尔条纹举例 2-6 光辐射调制概述 莫尔条纹的调制作用 从上面的例子可以看到: 在光栅后的某一点的光通量随光栅的移动作明暗交替变化,即莫尔条纹把光栅位移信息转换成光强度变化的信号,从而实现了对光辐射的调制。 2-6 光辐射调制概述 Pλ 计量光栅——精密测量中的测量元件 P≈λ 衍射光栅——光谱仪器中的分光元件 P λ 亚波长光栅——增透、偏振元件 按制作方法分类:刻划光栅、复制光栅 材料:玻璃光栅、金属光栅 表面结构:黑白光栅、相位光栅 计量光栅 2-6 光辐射调制概述 2-6 光辐射调制概述 2-6 光辐射调制概述 2-6 光辐射调制概述 复制技术 基底 压模 印章 紫外光 复制元件 曝光 印章 复制元件 分离 印章 基底 印章 SURPHEXTM (a) (d) (c) (b) 干性光聚合物紫外成型压模技术 2-6 光辐射调制概述 计量光栅莫尔条纹的形式 横向莫尔条纹:P1=P2 ,夹角θ较小 纵向莫尔条纹:P1≠P2 ,P1与P2接近, θ=0 斜向莫尔条纹:P1≠P2 ,P1与P2接近, θ≠0 2-6 光辐射调制概述 莫尔条纹的几何特征 条纹宽度 (一般θ很小) 光栅移动P,条纹移动B, PB, 莫尔条纹具有放大作用, 放大倍数 2-6 光辐射调制概述 莫尔条纹的测量 莫尔条纹的移动量: N: 移动过检测点的莫尔条纹的整数部分 BY:莫尔条纹宽度 q : 莫尔条纹的小数部分 光栅的移动量 2-6 光辐射调制概述 声光调制 概念: 弹光效应:当一块各向同
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