金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线及应用.PDF

第３０卷 第１１期 应 用 化 学 Ｖｏｌ．３０Ｉｓｓ．１１ ２０１３年１１月 　　　　　　　ＣＨＩＮＥＳＥＪＯＵＲＮＡＬＯＦＡＰＰＬＩＥＤＣＨＥＭＩＳＴＲＹ　　　　　　　 Ｎｏｖ．２０１３ 金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线及应用 范绪阁　李国才　程超群　胡　杰 （太原理工大学信息工程学院　太原０３００２４） 摘　要　金属辅助化学刻蚀是近些年发展起来的一种各向异性湿法刻蚀，利用该方法可以制备出高长径比 的半导体一维纳米结构。本文综述了金属辅助化学刻蚀法可控制备硅纳米线的最新进展，简要概述了刻蚀的 基本过程与机制，重点阐述了基于不同模板的金属辅助化学刻蚀可控制备高度有序、高长径比的硅纳米线阵 列的具体流程与工艺，并介绍了其在锂离子电池、太阳能电池、气体传感检测和仿生超疏水等方面的潜在应 用，探讨了目前存在的问题及其今后的研究发展方向。 关键词　硅纳米线，金属辅助化学刻蚀，可控制备，模板，锂离子电池 中图分类号：Ｏ６４９　　　　　文献标识码：Ａ　　　　　文章编号：１０００