微波等离子技术与多种技术相结合.docVIP

微波等离子与多种技术相结合 开发创新镀膜设备 新型膜材料的开发，在推动一些新型产业发展上，将起着越来越大的作用（如半导体、光电子、传感器等产业上），它依赖创新设备的研发。 使用2450兆赫的微波能使原料气体电离率达20％，如再结合电子回旋共振技术，其电离率可达100％，但给予离子的能量却仅为5～30ev，属最有利于沉积膜的能量范围。不似射频（RF：13.56MHZ）,沉积能量高于50ev，将给膜和衬底带来轰击损伤。其另一特点是，微波又可以进行长距离等离子输运：原料气化或溅射后由微波使其电离，并能使输运过程中一直保持等离子状态，这有利于在衬底上沉积膜均匀、致密，且与各种衬底结合力良好。 基于上述特点，我们开发出多种技术集成的微波镀膜机。今后我们还将开发出更多的以微波等离子技术为基础的高端等离子加工设备。 目前设备的主要用途划分的机型包括： 1．生产绝缘膜、钝化膜：可用于生产SiO2、Si3N4、SiOxNy、SiC膜，以及它们的叠层复合膜； 2．镀金属机型：可镀Cu、Ni、Ti、W以及贵金属等高熔点金属膜； 3．镀金属化合物机型：可镀TiN、TiO2以及碳化物、硫化物、硼化物、砷化物等金属化合物膜。 例如用上述设备淀积铜，由于在沉积过程中微波一直使铜保持离子状态，其粒径最小，可以在超深亚微米集成线路上实现金属互连，对大深寛比的互连沟槽金属填充完满（甚至节点在45纳米以下）。该技术易制备纳米薄膜，使薄膜具有二维纳米材料特性，使这类设备具有广泛的应用前景。譬如绝缘钝化膜在高集成器件中作为绝缘层和封装膜，其中Si3N4即绝缘又导热，SiC对光波有很好的通透性和陷光作用，因此在太阳能光伏电池和复合吸波材料中都可以发挥作用。又如磁记录和磁光技术，需要材料具有磁功能。而制备磁和光信息存储材料是向高密度、高容量的信息存储发展，要求材料有很高的矫顽力，这不但与膜厚和成分有关，而且需要生成不同纳米级材料的多层结构，这对提高记录性能十分重要，层间的良好结合力恰恰是微波淀积技术的特点。同样，作为吸收雷达波的隐身材料，尤其是磁性材料，如Fe2O3、Fe3O4、TiO2、NiCo及其保护膜SiC、Si3N4等，在结构上多种、多层纳米复合材料的吸波隐身效果尤为突出，要求更高的层间结合力，微波技术仍然可以达到。其它磁性功能材料包括磁致伸缩材料、磁电阻材料、磁阻抗材料等，应用范围日益广阔，然而常用的磁控溅射工艺不能使用，微波金属镀膜机和化合物镀膜机恰恰可以在这些新材料开发上起到不可或缺的作用。 目前我们已经开发出的机型有： 镀SiO2、Si3N4、SiOxNy、SiC、微晶硅、多晶硅材料的机型； 可镀Cu、Ni、Ti、Fe、Co和贵金属等的机型；而高熔点金属化合物膜 因为与纯金属淀积工艺相差较大已经形成另外的专门机型； 目前已设计完成正加工的机型是拟用于制备高效太阳能电池的氧化锌材 料的机型；其它如AI、Mg、In、Cd、Ga等低熔金属化合物也使用该机型获得，其功能包括宽带隙半导体掺杂，我们将它称为“微波蒸发平台”。 我们考虑到国家当前急需创新的设备以打破“材料瓶颈”，各行各业均需要新材料来制备高端器件。我们愿意共同合作开发，共同获得独立的知识产权，一起得到高附加值的效益。总之，我们开发微波设备，是抛砖引玉，希望以集成创新的设备为原始创新的材料和器件奠定基础。 详细介绍请参阅附件。 附件：绿色的微波等离子加工技术 李烈英 张敬祎 2008－6－28。 联系电话： 0532 电子邮箱：jingyi00128.cn 附件： 绿色的微波等离子加工技术： 微波等离子设备在微电子、光电子、传感器等工业上应用现状和前景 前言：在上世纪末我们开始认识到我国高科技发展受限的瓶颈是“材料”，特别是半导体行业最为明显，主要原因在于生产材料的设备几乎全部控制在先进国家的手里。我们花几十倍的价格也未必能够买得到。西方害怕我们破坏他们几代人、上百年和几乎花费无法计算的代价所获得的知识产权。他们知道中国人是聪明的，我们一旦学会了西方的‘高科技’前途将不可限量，更害怕和他们算‘百年受侵略’的旧帐。然而我们是一个胸怀宽阔的民族，更是一个智慧的、具有五千年连续文明史的优秀民族，区区一、二百年的落后，决不能动摇我们自立于世界民族之林的决心，更不能阻挡我们前进的步伐。本文将从半导体生产设备这一角度展开论述，试图找到适合我们半导体工业的发展道路。肯定会有许多错误，敬请原谅，多多指正。 1 国内外半导体制造设备的概况 当前世界工业体系中最大的产业当属半导体工业。西方先进国