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硬盘及电子行业钌系溅射靶材用钌粉 编制说明 （讨论稿） （2014年4月） “硬盘及电子行业钌系溅射靶材用钌粉” 编制说明 一、工作简况 1.计划来源及主要起草人 贵研铂业股份有限公司根据市场的需求变化，于2012年向中国有色金属工业标准计量质量研究院提出制定制备钌靶用钌粉行业标准的建议，2013年9月工业和信息化部以工信厅科[2013]102号文下达该标准的制定任务，项目起止时间为2013年9月～2014年12月，行业标准计划号为2013-0387T-YS，技术归口单位为中国有色金属工业标准计量质量研究所，起草单位为贵研铂业股份有限公司。本标准于2013年10月由中国有色金属工业标准计量质量研究所主持，在山东省济南市召开了任务落实会，根据任务落实会会议精神和与会专家的意见，本标准于2014年4月完成了预审稿。 本标准主要起草及修订人员：谭志龙，郭俊梅，张俊敏，王传军，毕珺，管伟明，闻明，陈松，朱武勋。 2.编制过程 接到本标准的制定任务后，首先对目前公司运行的企业标准进行了全面研究分析，在此基础上总结了近年来国内外靶材行业用钌粉的生产应用情况及最新研究成果报道，同时查阅了大量国内外厂商产品的先进技术指标，结合国内现状，根据近年来产品的使用要求，在积累大量数据的基础上，认真分析研究了各相关指标，在企业标准的基础上撰写了该行业标准草稿。本标准与企业标准制备钌靶用钌粉相比较，标准名称更改为硬盘及电子行业钌系溅射靶材用钌粉，由于钌及钌基其他靶材如RuCo等靶材主要应用于硬盘及电子行业中进行溅射成膜，而且制备钌基其他靶材对钌粉末的要求与制备钌靶相同，因此，标准名称更改为硬盘及电子行业钌系溅射靶材用钌粉与本标准的实质内容更贴切。 二、制定原则 随着钌系溅射靶材在磁记录及电容等领域的扩大应用和发展，钌系溅射靶材用钌粉在其中发挥着重要的作用，为了使科研和生产有章可循并有效地与国际先进技术接轨，既考虑到本标准的规范性、先进性，又注重其适应性、可操作性和完整性，特修订本标准。 编制本标准的原则是以企业标准《制备钌靶用钌粉》为基础，完全按GB/T 1.1-2009《标准化工作导则 第1部分 标准的结构和编写》及《有色金属加工产品国家标准、行业标准编写示例》规定的格式进行编制，以范围——规范性引用文件——术语和定义——要求——试验方法——检验规则——标志、包装、运输、贮存——订货单（或合同）内容的顺序进行编制，内容完整全面。 三、制定的主要内容 本小组通过文献、专利调查以及使用厂家咨询和研究，发现：（1）目前国内外制定的钌粉的标准对于杂质元素的要求和种类都不能满足硬盘及电子行业中对于制备钌靶用的钌粉需要。主要体现在目前标准中多对于K、Na等碱金属元素含量没有要求；对于过渡族金属Co、Cr等元素也没有要求；对于制备中易混入粉末中的Zr等元素也没有要求；同时对C、O、N等对靶材性能有重要影响的非金属元素也没有要求；（2）目前国内外制定的钌粉的标准对于粉末的粒径分布没有要求，而粉末粒径分布的均匀性是影响最终靶材晶粒尺寸均匀性的重要因素；（3）目前国内外制定的钌粉的标准对于粉末的振实密度没有要求，而粉末的振实密度是反映粉末球形度以及团聚程度的重要参数，也是指导模具设计及单炉次生产能力的重要指标。总之，对于钌系溅射靶材制备用钌粉没有符合的国家和行业标准基于以上现状认为制定本行业关于钌系溅射靶材制备用钌粉的标准十分必要和紧迫。 从客户使用的效果和复验的结果看，本标准所定的各项技术指标是先进的和合理的。按本标准所定的各项技术指标生产的产品，质量稳定可靠，满足客户使用要求。 四、国内外同类标准水平的对比分析 1、钌的矿物主要为金属互化物、半金属互化物或硫化物与砷化物，以钌锇矿等存在，主要集中在南非、前苏联、美国和中国。钌粉主要应用于化合物、浆料、金属或功能合金材料，广泛使用于传统工业、高新技术、军工宇航等各个领域。 2、检索ISO、ASTM、EN、JIS、DIN、国家和行业标准等，只检索到ASTM中钌的标准和有色行业的钌粉标准，未发现制备钌系溅射靶材用钌粉的要求。 五、与现行法规、标准的关系 1、本标准的制定参考美国ASTM标准，与美国ASTM相比分析元素中没有Ca、Sn、Os，但是本标准增加了Ni、Zr、Al、K、Co、Cr、C、O、N元素的分析，本标准与ASTM标准比较无相同等级牌号； 2、本标准与有色行业的钌粉标准比较，主要是增加了分析元素K、Na、Co、Cr、Zr、C、O、N元素并规定了含量要求，并删除了Pb元素。按相同等级SM-Ru 99.95，将杂质元素Pt、Pd 、Rh、Ir、Si的含量由原来的0.005、0.005、0.003、0.008、0.01，修改为0.003、0.003、0.002、0.003、0.001； 3、本标准分为SMP-