GB/T 34504-2017蓝宝石抛光衬底片表面残留金属元素测量方法.pdf

ICS 77.040 H 17 OB 中华人民共和国国家标准 GB/T 34504—2017 蓝宝石抛光衬底片表面 残留金属元素测量方法 Measurement method for surface metal contamination on sapphire polished substrate wafer 2017-10-14 发布 2018-05-01 实施 发布 GB/T 34504—2017 ■ r ■ —— 刖 弓 本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)与全国半导体设备和材料标准 化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)共同提出并归口。 本标准起草单位:天通控股股份有限公司。 本标准主要起草人:康森、宋岩岩、邵峰、沈瞿欢、於震杰。 T GB/T 34504—2017 蓝宝石抛光衬底片表面 残留金属元素测量方法 1范围 本标准规定了蓝宝石抛光衬底片表面深度为5 nm以内的残稱金属元素的全反射X光荧光光谱测 试方法。 本标准适用于蓝宝石抛光衬底片表面残留的、在元素周期表中ll(Na)〜92(U)号(除去铝和氧)， 且面密度在109 atoms/cm2~1015 atoms/cm2范围内元素的定量测量 。其他用途蓝宝石抛光片表面残 留金属元素的测量可参照本标准执行。 2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的 。凡是注日期的引用文件 ，仅注日期的版本适用于本文 件 。凡是不注日期的引用文件，其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 GB/T 8979—200 纯氮、高纯氮和超纯氮 GB/T 14264半导体材料术语 GB 50073—2013 洁净厂房设计规范 3术语、定义和缩略语 GB/T 14264界定的以及下列术语 、定义和缩略语适用于本文件。 3.1术语和定义 3.1.1 掠射角 glancing angle 全反射X光荧光光谱(TXRF)测试方法中X射线的入射角度。 3.1.2 角扫描 angle scan 作为掠射角函数,对发射的荧光信号的测量。 3.1.3 临界角 critical angle 能产生全反射的最大角度 ，当掠射角小于这一角度时，被测表面发生对入射X射线的全反射。 3.2缩略语 TXRF 全反射 X 光荧光光谱(total reflection X-ray fluorescence) 4方法原理 4.1 TXRF的激发是以入射角小于0.1°的原级X射线掠射激发样品台上的样品 。入射的X射线通过 样品表面发生全反射 ，由此激发出来的X射线荧光通过Si (Li)探测器进行探测，再通过光谱仪进行定 量分析 。X射线的损耗波穿过样品表层呈指数递减，衰减强度与样品的表面粗糙度 、总电子密度有