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光刻机简单介绍 郑鸿光 2012.09.01 目录 1.发展史 2.光刻机概述 3.光刻机构造 4.相关技术 光刻机发展过程 1.接触式光刻机 2.接近式光刻机 3.投影式光刻机 4.扫描式光刻机 5.步进式光刻机 6.步进扫描式光刻机 光刻教育资料 光刻Team 4 光刻机概述（一） 腔体（CHAMBER） 主体（MAIN BODY） 传片单元（WAFER LOADER） 上版单元（RETICLE LOADER） 照明系统（ILLUMINATION） 工作台（WAFER STAGE） 控制柜（CONTROL RACK） 光刻教育资料 光刻Team 5 光刻设备概述（二） 微细加工技术的核心，是微细光刻技术。 主要有光学曝光、电子束曝光、X射线曝光、离子束曝光。 目前生产上大量采用的是光学曝光技术。 Nikon光刻机：重复步进式光刻机（NSR） 光刻教育资料 光刻Team 6 N S R – 2 2 0 5 i 12 C ① ② ③ ④ ⑤ ⑥ ① NSR為「Nikon Step and Repeat exposure systems」的略称。 ② 表示最大曝光範囲。 200為正方形□20.0mm的曝光範囲。 ③ 表示投影鏡頭的投影倍率。 5是表示将Reticle上的図形以1/5倍投影到Wafer上。 ④ 表示曝光光波長。 i是表示使用由超高圧水銀灯発出的光中的i線。 ⑤ 表示NSR本体的型式名。 此数字越大意味着是越新模型的NSR。 ⑥ 表示投影鏡頭的型式。 同様的□20mm1/5倍、使用i線的鏡頭中、以A或B等進行区別。 光刻教育资料 光刻Team 7 光刻机 光刻机：采用重复步进的方式将掩膜版（Reticle）的图形以5：1的比例转移到硅片（Wafer）上。 光刻教育资料 光刻Team 8 光刻机基础 光刻机曝光光源为超高压水银灯 高压水银灯光线组成 光刻教育资料 光刻Team 9 光学基础知识 i线：波长=365nm g线：波长=436nm 波长越长频率越低 i＞g 光刻教育资料 光刻Team 10 光刻机整体构造 光刻教育资料 光刻Team 11 光学系构造 RA E Hg LAMP M1 M2 S I MF、SF C F R1 R2 B MC ML 光刻教育资料 光刻Team 12 光刻机构造－干涉滤光镜 玻璃衬底上涂一层半透明金属层，接着涂一层氟化镁隔层（可以减少镜头界 面 对射入光线的反射，减少光晕，提 高 成 像 质 量 ），再涂一层半透明金属层，两金属层构成了法布里-珀罗标准具的两块平行板。当两极的间隔与波长同数量级时，透射光中不同波长的干涉高峰分得很开，利用别的吸收型滤光片可把不允许透过的光滤掉，从而得到窄通带的带通滤光片，其通频带宽度远比普通吸收型滤光片要窄。 光刻教育资料 光刻Team 13 光刻机构造－复眼lens 1、有多个具有共焦面 小凸透镜组成 2、为了确保照度、 均一性 reticle 光刻教育资料 光刻Team 14 光刻机构造－SHUTTER UNIT 位置：光路焦点处 结构：马达（直流） 计数器 扇叶 计数器 马达 扇叶 功能：开 曝光 闭 掩膜版对准、ISS 光刻教育资料 光刻Team 15 光刻机构造－Stage unit（1） 防震台 Y STAGE X STAGE Z STAGE T STAGE LEVELING STAGE WAFER HOLDER WAFER 主视结构图 光刻教育资料 光刻Team 16 光刻机构造－STAGE UNIT （2） Motor Fiducial mark FC2 mark 移动镜 Wafer holder Wafer Illumination uniformity sensor Monitor 插槽 定位块 光刻教育资料 光刻Team 17 光刻机构造－Stage unit（3） 光刻教育资料 光刻Team 18 工作台定位－HP干涉计 光刻教育资料 光刻Team 19 工作台定位－HP干涉计 在氦氖激光器上，加上一