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- 2019-08-04 发布于天津
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二、竞争对手专利分析——案例:等离子体刻蚀机专利分析 * 专利集中度分析: 反映对于特定技术的专利控制格局、竞争和垄断程度 二、竞争对手专利分析——案例:等离子体刻蚀机专利分析 * 各技术分支的专利分布分析: 反映特定领域各分支的专利分布情况及专利集中的重点技术分支 二、竞争对手专利分析——案例:等离子体刻蚀机专利分析 * 技术研发活跃度分析: 反映特定领域技术研发所处的阶段:起步期、发展期、成熟期和衰退期 二、竞争对手专利分析——案例:等离子体刻蚀机专利分析 * 各技术分支历年专利分布分析: 反映各技术分支历年研发的整体状况 二、竞争对手专利分析——案例:等离子体刻蚀机专利分析 * 各类技术效果相关专利历年分布分析: 反映特定技术研发过程中重点关注和解决的主要技术问题 二、竞争对手专利分析——案例:等离子体刻蚀机专利分析 * 技术-功效矩阵分析: 1.反映技术研发及专利布局的聚焦点和空白点 2.有助于企业确定技术研发方向 二、竞争对手专利分析——案例:等离子体刻蚀机专利分析 * 中微半导体 (中国) 三菱(日本) MITSUBISHI 佳能(日本) CANON 三菱(日本) MITSUBISHI 积水化工(日本) SEKISUI CHEM IND 10 索尼(日本) SONY 海别得公司 (美国) HYPERTHE
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