热发射扫描电镜专业技术规格及要求.docVIP

热发射扫描电镜技术规格及要求 1、 设备组成、布置方式及用途说明 1.1 设备名称：热发射扫描电镜 1.2 数量： 一套 1.3 场发射扫描电镜主要由以下部分组成： ①主机：热场发射扫描电镜 ②附件：电制冷能谱(EDS)与EBSD一体化系统；离子束镀膜仪；精密切割机；半自动研磨/抛光机；振动抛光机。 1.4 推荐布置方式：开放式布置。 1.5. 电镜主要用于材料的微观形貌观察，要求该设备可以直接对导电（金 属材料、半导体材料）和不导电的材料（陶瓷、塑料、玻璃等）进行观察，以满足研究近似原始状态下相关样品的观察和分析需求；配上能谱仪，可对材料的微区成分进行定性和定量分析及元素线扫描和面分布分析；配上EBSD，可通过实时采集背散射电子以及标定背散射电子衍射花样，快速获取逐点的晶体学结构信息，分析研究材料的晶体取向、微观织构及其相关的材料性能等。 1.6. 能通过程序控制实现自动化检测。 2、 技术指标要求 2.1. 场发射扫描电镜FESEM 场发射扫描电镜作为最关键部件，要求选用国际知名品牌产品。投标文件应对所选用场发射显微镜品牌、特色及技术指标给予详细描述。 1 性能参数 1.1 分辨率 　 　 二次电子像（SE） 15KV 1nm 1KV 1.6nm 　 分析模式（EDS或EBSD分析） 15KV 3nm 　 背散射电子像（BSE） 30KV 2.5nm 1.2 放大倍数 30-