溅射法文档资料镀二氧化钛薄膜靶材跟工艺探究进展.pdfVIP

维普资讯 第30卷 第2期 稀 有 金 属 2006年 4月 Vo1．30№ ．2 CHINESEJOURNALOFRAREMETALS Apr．2006 溅射法镀二氧化钛薄膜靶材及工艺研究进展 赵 鑫．．，王星明，黄松涛’，储茂友 ，郭 奋 ，王赞海 (1．北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所，北京 100088；2．北京化工大学教育部超重力研究 中心，北京 100029) 摘要：介绍了溅射法镀膜的基本原理，阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状。溅射镀TiO：薄膜用靶材主要 有金属钛 、二氧化钛和 “非化学计量”二氧化钛靶材3大类。由于钛的氧化态及靶材导电性不同，它们对溅射工岂(如溅射气氛等)有一定具体 的要求，通过对靶材和相应工艺进行分析比较 ，指出应用 “非化学计量”靶材是溅射法制备二氧化钛薄膜技术发展的重要方向。 关键词：溅射；靶材；二氧化钛薄膜 中图分类号：0643．32 文献标识码：A 文章编号：0258—7076(2006)02—0177一o4 二氧化钛薄膜在O．4—3 m波长范围内具有良好 优缺点和发展趋势。 的透过性和高折射率(当 =500nn3时，n=2．35；当 1 溅射镀膜工艺 = 2／an时，n=2．2)，而且机械性能优良、抗腐蚀能 力强J-‘3]，可用于复合光学镀膜 以生产低辐射玻璃和 溅射镀膜法 是利用直流或高频电场使惰性 减反射玻璃。另一方面，二氧化钛薄膜具有光催化性 气体发生电离，产生辉光放电等离子体，产生的正 能_4]，在光催化净化和光化学太阳能电池等环境 自净 离子高速轰击靶材，使靶材上的原子或分子溅射 工业中，是应用最广泛的材料之一L5j。 出来，然后沉积到基体上形成薄膜。目前主要的溅 应用溅射镀膜技术，可在玻璃、塑料和金属上 射方法可分为以下4种：(1)直流溅射；(2)射频溅 镀各种金属、介电材料的复合膜，以起到太阳能控 射；(3)磁控溅射；(4)反应溅射。另外，还可以将 制、低辐射、阻止反射、电磁界面、透明半导体以 上述方法结合起来构成某种新的方法。比如，将射 及其它很多方面的作用。 频溅射技术和反应溅射技术结合起来就构成了射 二氧化钛薄膜的制备方法很多，如溶胶．凝胶 频反应溅射的方法。图l以磁控溅射为例来说明溅 法[、化学气相沉积[、蒸发沉积[、离子束辅助 射镀膜的原理[2。 沉积[93和溅射沉积等[ 。其中溅射沉积具有以 如图l所示，电子在电场 E作用下加速飞向 下主要优点：(1)能够使材料均匀地按照合适的比 基体的过程中与氩原子发生碰撞 。若电子具有足 例镀在基体表面上；(2)有足够的能量确保形成密 、 ： ‘ {Sub 实结构；(3)可在大面积范围得到厚度和性质均一 昌 I．． 皋 ’E 的薄膜；(4)溅射参数简单可控。因此这种方法受 r i- Sputte 到广泛关注n ，溅射技术已经有了30多年的历 史，它一直是大面积精确控制薄膜沉积中很受青