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修訂日期:108-06-10PAGE 2
修訂日期:108-06-10
清華大學奈微與材料科技中心
108年 暑假 奈米與微製程實驗訓練班
課程簡章
◎課程目的:
為增進學生與研究人員在奈米與微製程領域的知識與技術,本中心精心規畫短期半導體理論課程與PMOS實驗訓練課程,做為進入無塵室研究之基礎訓練課程,以增加學員在製程實驗與研究能力上的實務經驗,並替未來奠下良好基礎。
◎課程特色:
師資陣容堅強
理論課程(線上):由本中心博士級研究人員專業授課;
實驗課程:由操作機台設備經驗豐富之技術人員指導授課。
課程內容完整
理論課程:加強受訓者之無塵室奈米與微製程相關知識及基礎實驗技能。
實驗課程:包括P- Channel Metal Oxide Semiconductor (PMOS)製程影片講解,並實地訓練標準清洗、微影製程、薄膜沉積製程、蝕刻等相關實驗。
課程方案
方案一:理論課程(線上觀看影片)
方案二:實驗課程
【註1】:修習過本中心〔理論課程〕+〔實驗課程〕,並通過完整(理論+實驗)考核後,可直接申請參加NDL製程技術機台儀器訓練。
【註2】:修習過附件一(半抵免)課程者,可免上本中心〔理論課程〕,僅需單修〔實驗課程〕,並通過考核後,始能申請本中心製程儀器之訓練及考核。
(線上報名時,請上傳修課證明或成績單)
【註3】:修習過附件二(全抵免)課程者,可直接申請本中心製程儀器之訓練及考核。
一、課程內容
課程方案
講義主題
授課講員
理論課程
(線上觀看影片)
半導體導論與無塵室基礎設施介紹
岑 尚 仁
標準清洗與高溫氧化
岑 尚 仁
擴散製程
岑 尚 仁
微影製程
岑 尚 仁
物理氣相沉積製程(PVD)
李 薇 妮
化學氣相沉積製程(CVD)
李 薇 妮
蝕刻製程
游 家 睿
課程方案∕梯次
上課時段
課程內容
授課講員
上課地點
實驗課程
第一梯
108年07月23-24日
第二梯
108年08月06-07日
第三梯
108年08月13-14日
第四梯
108年09月03-04日
第一天
08:30~09:00
報到
創新育成大樓321室
09:00~12:00
PMOS製程流程詳解
張瀞文
吳若穎
戴依馨
宋明穎
沈維哲
13:30~17:30
濕式清洗製程實作
物理氣相沉積製程
講解與實作
清華實驗室
1F無塵室
第二天
08:30~09:00
報到
創新育成大樓321室
09:00~12:00
無塵室設備介紹
測驗
13:30~17:30
黃光微影製程實作
濕式蝕刻製程實作
張瀞文
吳若穎
戴依馨
宋明穎
沈維哲
清華實驗室
1F無塵室
量測分析設備介紹
李薇妮
劉恩惠
創新育成大樓321室
二、收費標準
課程方案
清大
學界
業界
方案一
理論課程(線上觀看影片)
2,000元/人
3,000元/人
4,500元/人
方案二
實驗課程
2,500元/人
3,500元/人
5,000元/人
方案一
+
方案二
理論課程(線上觀看影片)+ 實驗課程
3,500元/人
5,500元/人
8,500元/人
【註4】:欲同時修習〔理論課程 + 實驗課程〕者,請同時報名〔方案一 + 方案二〕
【註5】:上列費用包含一次考核及一張證書。
三、對象與注意事項
對奈米/微機電系統領域有興趣之學生、學界及業界人士皆可報名。
修習方案一學員須觀看完理論課程影片後,親至本中心參加考核,且測驗成績高於70分者,本中心發予修課證書。
修習方案二學員須全程參與現場實驗課程後,親至本中心參加考核,且測驗成績高於70分者,本中心發予修課證書。
修習〔方案一+方案二〕學員須觀看完理論課程影片及全程參與現場實驗課程後,親至本中心參加考核,且測驗成績高於70分者,本中心發予修課證書。
若現場實驗課程各梯次報名人數未滿16人者,本中心將延後開課日期,待報滿16人後,再另訂開課日期。
四、報名與繳費辦法
本課程採線上報名(網址:8:7480)。
現場〔實驗課程〕報名截止日期:
第一梯:即日起至108年07月15日中午12點止。
第二梯:即日起至108年07月29日中午12點止。
第三梯:即日起至108年08月05日中午12點止。
第四梯:即日起至108年08月26日中午12點止。
【註6】:接獲繳費通知後,須於3日內,繳交費用;若期限內未繳費,視同放棄,將直接由候補者遞補,本中心將不另行通知,請見諒。
【註7】:繳費完,並接獲〔已入帳〕通知後,方可算報名完成。
於現場〔實驗課程〕開課前7天內(含假日)取消報名者概不退費,其餘酌收1/4報名費為行政處理費,故在報名時,請務必審慎考量,斟酌行事。
五、校內住宿資訊(自費、需自行訂房)
1. 清華會館 (.tw/)
2. 清齋10樓短期住宿 (.tw/guest10/)
六
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