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第 17卷,第 5期 光 谱 实 验 室 Vol . 1 7 , No . 5
2 0 0 0 年 9 月 Chinese Journal of Sp ectroscopy Laboratory September , 2000
气流磨超细粉碎硅灰石 XRD研究①
吴伟 端②
(华侨大学材料物理化学研究所 福建省泉州市 362011)
潘 兆橹
(中国地质大学 北京市 100083)
本文选用气流磨所产生的超音速气流作为机械力,对硅灰石进行超细粉碎 ,应用 XRD分析超细硅灰
石与 320 目硅灰石 XRD强度的变化,从而推测气流磨机械力诱导硅灰石晶型转变效果。 X RD分析显示:
经气流磨机械力粉碎 ,超细硅灰石 X射线衍射峰大多数变弱 ,惟有 d= 0. 298nm 的 XRD强度由834cps上
升到 2139 。根据布拉格-布伦塔诺衍射理论,认为该现象系硅灰石在气流磨机械力作用下,由硅灰石
cps Tc
转变成硅灰石 2M所致。
硅灰石 ,气流磨, XRD。
: O434. 19 : A : 1004-8138( 2000) 05-0510-04
1 前言
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2 实验与结果
4: 320(: )、320
()、320+ 1% — ()、
① 矿物岩石材料开发与应用国家专业实验室资助项目( 98006)、福建省自 科学基金资助项目( 96007)
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② 联系人,电话: ( 0595) 2691569(办); ( 0595) 2792120(家);传真: ( 0595) 2686969; E-mail: w w uan@ hqu. e u. cn
作者简介: 吴伟端( 1955— ) ,女,福建省泉州市人,华侨大学副研究员,博士,从事矿物材料开发与应用研究。
收稿日期: 2000-07-06
第 5期 吴伟端等: 气流磨超细粉碎硅灰石 X RD研究 511
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。: Cu; ; 50kV; 80mA; SS= RS= 1; DS= 0. 1mm;0. 02 ;
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硅灰石( 320 目) 超细硅灰石 超细硅
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