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11/7/2009
第五章 金属和半导体的接触
• 5.1金属 半导体接触及其平衡态
5.1.1 金属和半导体的功函数
5.1.2 有功函数差的金- 半接触
5.1.3 表面态对接触电势差的影响
5.1.4 欧姆接触
• 5.2 金属 半导体接触的非平衡状态
5.2.1 不同偏置状态下的肖特基势垒
5.2.2 正偏肖特基势垒区中的费米能级
5.2.3 厚势垒区金属 半导体接触的伏安特性
5.2.4 薄势垒区金属 半导体接触的伏安特性
5.2.5 金 半接触的少子注入问题
5.2.6 非平衡态肖特基势垒接触的特点及其应用
* 1
11/7/2009
金属-半导体接触
Ø金-半接触的整流效应是半导体物理效应的早
期发现之一,并且最早付诸应用:
Ø1874年,德国物理学家布劳恩发现金属探针与
PbS和FeS 晶体的接触具有不对称的伏安特性;
2
Ø1876年,英国物理学家亚当斯发现光照能使金
属探针与Se的点接触产生电动势;
Ø1883年,福里茨发现金属探针与Se的点接触的
整流特性;
* 1
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金属-半导体接触
1904年,美国电气工程师鲍斯获得Si和PbS点接
触整流器的专利权
1906年,美国电气工程师皮卡德获得点接触晶体
检波器的专利权,这种器件是晶体检波接收机(
即矿石收音机)的关键部件;
1920年,硒 (Se)金-半接触整流器投入应用;
1926年,Cu O点接触整流二极管问世,并在二战
2
中应用于雷达检波。
* 1
11/7/2009
第五章 金属和半导体的接触
• 5.1金属 半导体接触及其平衡态
5.1.1 金属和半导体的功函数
5.1.2 有功函数差的金- 半接触
5.1.3 表面态对接触电势差的影响
5.1.4 欧姆接触
• 5.2 金属 半导体接触的非平衡状态
5.2.1 不同偏置状态下的肖特基势垒
5.2.2 正偏肖特基势垒区中的费米能级
5.2.3 厚势垒区金属 半导体接触的伏安特性
5.2.4 薄势垒区金属 半导体接触的伏安特性
5.2.5 金 半接触的少子注入问题
5.2.6 非平衡态肖特基势垒接触的特点及其应用
* 1
11/7/2009
5.1.1 金属和半导体的功函数
• 1、金属的功函数
• 2、半导体的功函数
l功函数的定义:
真空能级E0 与费米能级EF 能量之差.
W= E - E E
0 F 0
W
W
E
EF
F
* 1
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1、金属的功函数
•金属中的电子虽然在金属中自由运动,但要使电子从
金属中逸出必须由外界给它以足够的能量.因此,金属向
真空发射电子需要最低能量,这一最低能量定义为金属
的功函数.功函数的大小反映了电子在金属中被束缚的
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