氢气稀释比例对多晶硅薄膜微观结构和沉积特性的影响.PDFVIP

第 34 卷 第 3 期 核 聚 变 与 等 离 子 体 物 理 Vol.34, No.3 2 0 1 4 年 9 月 Nuclear Fusion and Plasma Physics Sep. 2014 文章编号：0254−6086(2014)03−0275−07 氢气稀释比例对多晶硅薄膜微观结构 和沉积特性的影响 宋莎莎，左 潇，魏 钰，陈龙威，舒兴胜 (中国科学院等离子体物理研究所，合肥 230031) 摘 要：利用电感耦合等离子体增强化学气相沉积法(ICP-PECVD)直接在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄 膜，主要研究了不同氢气稀释比例对薄膜沉积特性和微观结构的影响。采用 X 射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪和 扫描电子显微镜(SEM)表征了在不同氢气比例条件下所制备多晶硅薄膜的微结构、形貌，并对不同条件下样品的 沉积速率进行了分析。实验结果表明：随着混合气体中硅烷比例的增加，薄膜的沉积速率不断增加；晶化率先增 加，后