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2019-09-25 发布于广东
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微系統實驗室.ppt

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微系統實驗室 SPUTTER簡介簡介本實驗室之ARC連續薄膜沉積系統是能控制桌面最佳鍍膜的完備處理裝置，是一台小巧結實並易於使用的系統。使用前一定要閱讀操作手冊，並依操作手冊使用。特別注意維護及操作部分，若無依循使用手冊進行實驗，會導致儀器損壞。煩請大家多多配合！系統概觀此ARC-12M包含了一個渦輪分子Pump的真空系統，以及三個平面磁控管濺鍍Source(兩英吋1個、四英吋2個)；1~3個DC電源供應器；一個IBM的PC微處理控制系統；一個電源控制和表面電子裝配；和一個真空控制電子裝配。實驗時可以選擇DC或RF的電源供應，而電源和真空系統完全由電腦控制。電源設定對兩英吋範圍0~250瓦特，四英吋範圍0~1000瓦特。基本壓力設定從10-7 到10-4 torr。操作壓力設定在1~99mtorr！