第四讲_衍射光栅与制作技术(1).pptVIP

* 知识回顾Knowledge Review * * * 产生双光束干涉条纹的光学系统 分波前系统 光学系统 分振幅系统 * * Kr+ laser 透镜 反射镜 空间滤波器 光栅基片 光刻胶 反射镜 * 美国LLNL制作940mm全息光栅的光学系统 * * * * 光栅线密度 红外波段：300～600线/mm 可见波段： 600线/mm 紫外波段：1200～2400线/mm 实用线密度最高可达：10000线/mm * 全息-离子束刻蚀光栅 * 工艺流程 基板准备 涂胶 曝光 显影 离子束刻蚀 清洁处理 * 全息-离子束刻蚀闪耀光栅 * 离子束 ? ? 闪耀角 * 光刻胶光栅条纹截面形状需要严格控制 h=0.7326dtg? 离子束刻蚀对光刻胶光栅掩模图形的要求 ? M N o * 光栅条纹浮雕轮廓与曝光量的关系 * 光栅条纹浮雕轮廓与显影时间的关系 * * 80线/mm闪耀光栅 闪耀波长：10.6 ?m，闪耀角25? 采用全息-离子束刻蚀技术在光学基板上刻蚀的锯齿槽形红外闪耀光栅。 * 600线/mm闪耀光栅 闪耀波长：458 nm 闪耀角：7.9? 采用全息-离子束刻蚀技术在光学基板上刻蚀出锯齿槽形的闪耀光栅。 * 有效面积：30mm×50mm 闪耀波长