反应离子刻蚀的研究.docVIP

PAGE ADDIN CNKISM.UserStyle老反应离子刻蚀的研究 摘要：反应离子刻蚀（RIE）是一种物理作用和化学作用共存的刻蚀工艺，兼有离子溅射刻蚀和等离子化学刻蚀的优点，不仅分辨率高，同时兼有各向异性和选择性好的优点，而且刻蚀速率快。通过改变RIE刻蚀参数如：射频功率、腔体压强、气体流量、气体组分等可以调整两种刻蚀过程所占比重。因此，优化刻蚀工艺就是要选择最优的刻蚀参数组合，在减小刻蚀损伤的同时保证光滑的刻蚀表面和一定的刻蚀速率以及方向性。本文归纳总结了常见薄膜的刻蚀优化方法。 关键词：反应离子刻蚀；离子溅射；刻蚀速率；均匀性 Research of Reactive Ion Etching Lu Dongmei, Yang Fashun (College of Science, Guizhou University, Gui Yang of Guizhou, 550025) Abstract: Reactive ion etching (RIE) is a kind of physical function and chemical etching, high resolution, anisotropic and good selectivity, and the etching rate is fast. By changing the RIE etchi