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3.13 BJT的设计
3.13.1 优化设计的目的--提高性能
尽可能大的电流增益
尽可能快的速度,高的fT,或小的延迟时间
尽可能减少寄生电阻和电容
半导体器件物理 © Dr. B. Li
3.12.2 各种用途的BJT
微波BJT
功率BJT
开关BJT
半导体器件物理 © Dr. B. Li
1、微波晶体管
• 用于高频小信号的放大
• 特征频率f 是重要的指标,通常要求f 1GHz
T T
• 其他参数还有最高振荡频率f 、噪声系数等
M
• 由于μμ ,微波晶体管全为npn型
n p
• 设计中需要尽可能减小寄生效应
尺寸和形状的仔细设计
• 为减小电流集边效应
加大发射区周长/发射区面积
半导体器件物理 © Dr. B. Li
2、功率晶体管
• 用于功率放大,需要承受高电压,通过大电流
• 功率和击穿电压是重要参数
• 设计中需要注意散热、通过采用厚WB和大条宽
半导体器件物理 © Dr. B. Li
功率特性
功率特性
在大电流下,直流放大系数和特征频率都会快速下降。
在大电流下,直流放大系数和特征频率都会快速下降。
大注入效应:
大注入效应:
1. 基区电导调制(β下降)和大注入自建电场(β上升) 。
1. 基区电导调制(β下降)和大注入自建电场(β上升) 。
2. 基区扩展效应,电流增益下降,特征频率下降。
2. 基区扩展效应,电流增益下降,特征频率下降。
3. 发射极电流集边效应。减少发射结条宽,增加周长。
3. 发射极电流集边效应。减少发射结条宽,增加周长。
4. 结温升高,本征激发超过杂质浓度,整流特性被破坏。
4. 结温升高,本征激发超过杂质浓度,整流特性被破坏。
半导体器件物理 © Dr. B. Li
最大集电结耗散功率P P = I V
最大集电结耗散功率P P = I V
CM C C CE
CM C C CE
在此功率下,晶体管仍能够正常而又安全地工作。
在此功率下,晶体管仍能够正常而又安全地工作。
超过此功率,由于晶体管放大扎状态时,集电结反压,外加电压
超过此功率,由于晶体管放大扎状态时,集电结反压,外加电压
主要降再集电结上,集电结是晶体管的发热中心,过大电流则结
主要降再集电结上,集电结是晶体管的发热中心,过大电流则结
温过高,使晶体管参数变化或毁坏。
温过高,使晶体管参数变化或毁坏。
因此,晶体管工作时,集电极允
因此,晶体管工作时,集电极允
许的最大电流和最大电压不能同
许的最大电流和最大电压不能同
时出现。
时出现。
晶体管功率曲线。
晶体管功率曲线。
半导体器件物理 © Dr. B. Li
晶体管的二次击穿 造成功率晶体管或高频大功率晶体管突然烧毁或
是
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