(110)和(002)择优取向ZnO薄膜的制备及光学性能研究.pdfVIP

第26卷第1期 北方工业大学学报 VoI．26NO．1 CHINA Mar．2014 2014年3月 J．NORTH UNIV．0FTECH． 1 (10)和(002)择优取向 ZnO薄膜的制备及光学性能研究* 苏德志 赵全亮 李中翔 (北方工业大学机电工程学院，100144，北京) 摘要运用射频溅射法在si和LaNiO。／si衬底上分别制备了高度(002)和110)取向的 ZnO薄膜．通过x射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征，发现ZnO／LaNiO。／Si薄膜的 (110)取向度高达96％，ZnO／Si薄膜为(002)择优取向，两种薄膜表面均致密平整，晶粒尺寸小 于80nm．光致发光结果表明，ZnO／LaNiO。／Si薄膜的光致发光峰主要为带边发射的紫外光，而