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光电子器件综合设计 -------器件仿真;本讲主要内容;器件仿真流程;器件结构;;;ATLAS描述器件结构;材料特性;物理模型;计算方法;特性获取和分析;了解一下ATLAS;本章介绍ATLAS器件仿真器中所用到的语句和参数。
具体包括:;1. 语法规则;解析:
在一个语句后的参数可以是单词或者数字。
单词可由字母和数字所组成的字符串。由空格(space)或回车
(carriage return)来终止。
例: region (OK) reg ion (wrong)
数字可以是数字也可以是字符串也是由空格(space)或回车
(carriage return)来终止。
例: 3.16 (OK) 3.1 6 (wrong)
数字的取值范围可以从1e-38 到 1e38
数字可以包含符号 + 或 – 或 E(十进制) 例: -3.1415 (OK);规则3: 参数有4种类型;例如,在语句:
DOPING UNIFORM CONCENTRATION=1E16 P.TYPE 中
解析:
Doping 是语句名称
Uniform 和 p.tpye是两个逻辑型参数,在程序内部对应了逻辑值
CONCENTRATION=1E16 对应的是一个实数型参数。
每一个语句对应多个参数,这些参数代表了这个语句的某种属性,但都包含在4中参数之中。;温馨提示:
(1)命令缩减
没有必要输入一个语句或参数名的全称。 ATLAS只需要用户输入足够的字符来区分于其他命令或参数。
例: 命令语句 DOP 等同于 doping, 可以作为其命令简写。
但建议不要过度简单,以免程序含糊不清,不利于将来调用时阅读。;2. 通过实例学语句;#调用atlas器件仿真器
go atlas #网格初始化
mesh space.mult=1.0
#x方向网格定义
x.mesh loc=0.00 spac=0.5
x.mesh loc=3.00 spac=0.2
x.mesh loc=5.00 spac=0.25
x.mesh loc=7.00 spac=0.25
x.mesh loc=9.00 spac=0.2
x.mesh loc=12.00 spac=0.5
#y方向网格定义
y.mesh loc=0.00 spac=0.1
y.mesh loc=1.00 spac=0.1
y.mesh loc=2.00 spac=0.2
y.mesh loc=5.00 spac=0.4
#定义区域
region num=1 silicon
;;;;解析:
(1)
第一部分语句用来描述器件,包括网格参数(mesh), 电极设置
(electrode locations)以及掺杂分布(doping distribution) 这是
一个具有重掺杂的浮动式环状保护区域的二维n类型器件,它分布
在结构的左右两边???肖特基阳极在器件顶端,重掺杂的阴极位于器件底端。;关键语句是设置肖特基接触
contact name=char
(char表示接触的名称,用英文字符来表示比如 anode cathode)
workf=val
(val表示变量参数,用来设置功函数大小)
这个语句是用来设置肖特基电极的功函数的。
在这个例子里面,因为衬底是亲和能为4.17的n类型硅,所指定的功函数为4.97,这样提供了一个肖特基势垒的高度为0.8V. 默认的势垒高度是0. (一个完美的欧姆接触)这个条件是为阴极假定的。;语句和参数详解;mesh;mesh;#例1 设置初始网格均匀分布,为1.0微米
mesh space.mult=1.0 ;解析:以上建立了一个含有网格信息的12微米×5微米大小的区域。
n.MESH 定义沿着n方向的网格位置。
注意: x,y,z 方向上定义是等价的。
语法结构如下:
X.MESH LOCATION=数值 SPACING=数值
Location定义了网格线的位置,Spacing定义了网格间隔。;#语句3 区域定义语句
region num=1 silicon
解析:
region语句定义了材料的位置
每一个三角形都必须定义成一种材料。
语法结构如下:
REGION NUMBER=n material [position]
Numb
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