团体标准《电子级工业用硫酸》-(讨论稿)编制说明.doc.docxVIP

PAGE PAGE 8 协会标准《电子工业用高纯硫酸》（讨论稿）编制说明 一、工作简况 1、项目背景和立项意义 电子工业用高纯硫酸，主要用于硅晶片的清洗、光刻、腐蚀、印刷电路板的腐蚀和电镀清洗，电子级硫酸用于硅晶片的清洗已有30多年的历史，电子级硫酸是半导体工业常用的八大化学式试剂之一，消耗量居第三位。电子工业用高纯硫酸与半导体的发展密切相关。随着电子工业的发展，超高纯硫酸的研制和生产亦得到了快速发展，我国已经能够进行MOS级、BV— Ⅲ 级高纯硫酸的生产。但是，每个厂家对硫酸的技术指标规定不统一，执行标准也不一致，产品质量水平参差不齐，为促进半导体集成电路产业发展的需求，因此，需要建立一个适用于半导体产业用高纯硫酸的技术标准，促使国内企业提高高纯硫酸的产品质量，统一高纯硫酸的技术规格，为高纯硫酸的生产、销售、采购及使用提供参考依据，对促进我国极大规模集成电路产业发展具有重要的意义。 目前国外标准有《SEMI C44 Specification and Guide for Sulfuric Acid》、《SEMI PV33 - Specification for Sulfuric Acid Used in photovoltaic Applications》，国内标准有《GB/T 534-2014工业硫酸》、《GB/T 625-2007化学试剂 硫酸》这些标准中规定的技术指标规格较低，已不能满足目前半导体产业发展的需求。 2 任务来源 根据（中色协科字[2019] 号）的要求，《电子工业用高纯硫酸》由苏州汉谱埃文材料科技有限公司牵头负责起草，计划编号：2019-0031-T/CNIA，要求于2020年完成。 3 标准项目编制单位简况 苏州汉谱埃文材料科技有限公司，致力于半导体产业超高纯化学品的研发、技术服务与销售，团队成员由美国、台湾、中国数位专家组成，专家由半导体原材料到芯片生产产业链上相关的专业人才。于2018年在江苏昆山成立，一年来，针对超高纯试剂的提纯形成独特的技术路线，并且申报了3项专利、12项发明专利，而且全权管理江苏赛夫特半导体材料检测技术有限公司，又参股上海赛夫特半导体材料公司的电子化学品的生产，从半导体产品的研发、检测到生产，在逐渐发展过程中，对半导体涉及的电子化学品有了更深理解与实践，而国内半导体电子化学品技术起歩较晚，我们坚持在超高纯产品核心技术中加大投入，继续扩大产品种类，以满足不同生产工艺的要求，持续探究超高纯化学品空白领域，立志成为半导体超高纯化学品的领军企业。 主要工作过程 接到行业标准制定计划任务后，在全国有色金属标准化技术委员会的组织下，苏州汉谱埃文成立了协会标准《电子工业用高纯硫酸》编制组，确定了编制组成员的任务分工和实验计划。编制组开展了相关国内外资料、标准的整理和研讨工作。 二 标准编制原则和确定标准主要内容 编制原则 本标准按照GB/T 1.1-2009《标准化工作导则 第1部分：标准的结构和编写》和GB/T 20001.4-2001《标准编写规则 第4部分： 化学分析方法》的要求进行编写。标准中简述了方法原理，确定了适用范围、等级划分及其杂质含量要求、检验规则、包装、运输、贮存等技术内容。 标准主要内容说明 标准题目的确定 本标准的题目完全能够高度概括标准主旨和中心，能够反映出电子工业用硫酸要求及检验方法。 2.2 范围 本标准规定了电子工业用高纯硫酸的分级、要求、检验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输和储存及安全。 本标准适用于电子工业用高纯硫酸。该产品主要应用于光伏产业、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等。 2.3分级 电子工业用高纯硫酸按用途分为4个等级： 2.4要求 2.4.1 外观：无色透明液体。 2.4.2 电子工业用高纯硫酸应符合表1技术要求。 表1 技术要求 项目 I级 II级 Ⅲ级 IV级 主含量(H2SO4) w/ % 95．0-97．0 外观 透明无色 ≤10 ≤10 痕量阴离子指标 氯化物（Cl-）w/(μg/kg) ≤ 100 100 50 50 硝酸根（NO3-）w/(μg/kg) ≤ 200 200 100 100 磷酸根（PO43-）w/(μg/kg) ≤ 500 500 100 100 痕 量 阳 离 子 指 标 铝（Al）w/(μg/kg) ≤ 200 10 1 0.1 锑（Sb）w/(μg/kg) ≤ -- 5 1 0.1 砷（As）w/(μg/kg) ≤ -- 10 1 0.1 钡（Ba）w/(μg/kg) ≤ -- 10 1 0.1 硼（B）w/(μg/kg)