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- 2019-12-27 发布于江苏
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X射线光电子谱(XPS)X-ray Photoelectron Spectroscopy 常用表面分析方法与用途 XPS、AES和SIMS是目前广泛使用的三种表面分析技术。XPS的最大特色在于能获取丰富的化学信息,对样品表面的损伤最轻微,定量分析较好。SIMS的最大特色是检测灵敏度非常高,并可分析H和He以及同位素,可作微区、微量分析以及有机化学分析。AES的最大特色是空间分辨力非常好,具有很高的微区分析能力,并可进行元素表面分布成像。 1. XPS: 优点:⑴ 可测除H、He以外的所有元素,无强矩阵效应。 ⑵ 亚单层灵敏度;探测深度1~20单层,依赖材料和实验参数。 ⑶ 定量元素分析。 ⑷ 优异的化学信息,化学位移和卫星结构与完整的标准化合物数据库的联合使用。 ⑸ 分析是非结构破坏的;X射线束损伤通常微不足道。 ⑹ 详细的电子结构和某些几何信息。 缺点:⑴典型的数据采集与典型的AES相比较慢,部分原因是由于XPS通常采集了更多的细节信息。 ⑵ 使用Ar离子溅射作深度剖析时,不容易在实际溅射的同时采集XPS数据。 ⑶ 横向分辨率较低,15μ(小面积),3μ(成像)。 2. AES 优点:⑴ 可测除H、He以外的所有元素;当涉及到价能级时矩阵效应大,并
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