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ICS 31.240
L95
Q/AELV
湖南红太阳光电科技有限公司企业标准
Q/AELV 014—2019
M80110 型管式LPCVD 设备
2019-10-30 发布 2019-10-30 实施
湖南红太阳光电科技有限公司 发 布
Q/AELV 014—2018
目 次
前 言 II
1 范围 1
2 规范性引用文件 1
3 术语和定义 1
4 缩略语 1
5 型号规格确认方法 2
6 要求 2
7 试验方法 4
8 检验规则 8
9 标志、包装、运输和贮存 9
I
Q/AELV 014—2018
前 言
本标准依据GB/T1.1-2009 给定的规则编写。
本标准由湖南红太阳光电科技有限公司提出并归口。
本标准起草单位:湖南红太阳光电科技有限公司。
本标准主要起草人:吴德轶,成秋云,李明,张弥涛,周昌正。
本标准为首次发布。
II
Q/AELV 014—2018
M80110 型管式LPCVD 设备
1 范围
本标准规定了M80110 型管式LPCVD 设备(以下简称设备)规格的确认、要求、试验方法、检验
规则及标志、包装、运输和贮存。
本标准用于M80110 型管式LPCVD 设备的生产、检验和交货。
2 规范性引用文件
下列文件中的有关条款通过引用而成为本标准的条款。凡注日期或版次的引用文件,其后的任何修
改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,但提倡使用本标准的各方探讨使用其最新版本
的可能性。凡不注日期或版次的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T 191包装储运图示标志
GB/T 5226.1-2019 机械安全 机械电气设备 第1部分:通用技术条件
GB/T 6388-1986 运输包装收发货标志
GB/T 13306 标牌
GB/T 13384-2008 机电产品包装通用技术条件
GB/T 17626.2-2018 电磁兼容 试验和测量技术 静电放电抗扰度试验
GB/T 17626.3-2016 电磁兼容 试验和测量技术 射频电磁场辐射抗扰度试验
SJ/T 37-1996 电子工业专用设备型号编制与命名方法
SJ/T 10674-1995 涂料涂覆通用技术条件
SJ/T 20984-2008 化学气相淀积设备通用规范
3 术语和定义
下列术语和定义适用于本标准。
3.1
LPCVD:Low Pressure Chemical Vapor Deposition
LPCVD 中文全称为低压化学气相淀积,是在20~300Pa左右的反应压力下,通过气体的化学反应生
成固体反应物,并使其淀积在硅片表面形成薄膜的工艺。
4 缩略语
4.1
SV:Set Value
设定值。
1
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