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学 海 无 涯 GJB 548B-XXXX 微电子器件试验方法和程序 点击次数：181 发布时间：XXXX-3-1 14:24:07 GJB 548B-XXXX 代替 GJB 548A-1996 中华人民共和国国家军用标准 微电子器件试验方法和程序 Test methods and procedures for microelectronic device 方法 1009.2 盐雾(盐汽) 1 目的 本试验是为了模拟海边空气对器件影响的一个加速的腐蚀试验 1.1 术语和定义 1.1.1 腐蚀 corrosion 指涂层和(或)底金属由于化学或电化学的作用而逐渐地损坏 1.1.2 腐蚀部位 corrosion site 指涂层和(或)底金属被腐蚀的部位，即腐蚀位置 1.1.3 腐蚀生成物(淀积物) corrosion product(dcposit) 指腐蚀作用的结果(即锈或氧化铁、氧化镍、氧化锡等)。腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位， 或者由于盐液的流 动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。 1.1.4 腐蚀色斑 corrosion stain 腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。 1.1.5 气泡 blister 指涂层和底金属之间的局部突起和分离 1.1.6 针孔 pinhole 指涂层中产生的小孔，它是完全贯穿涂层的一种缺陷。 1.1.7 凹坑 pitting 指涂层和(或)底金属的局部腐蚀，在某一点或小区域形成空洞 1.1.8 起皮 flaking 指局部涂层分离，而使底金属显露 学 海 无 涯 2 设备 盐雾试验所用设备应包括： a) 带有支撑器件夹具的试验箱。该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料(玻璃、塑料 等)制造。在试验 箱内，与试验样品接触的所有零件，应当用不产生电解腐蚀的材料制造。该箱应适当通风， 以防止产生“高压” ，并保持盐雾的均匀分布； b) 能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。如需要，为了进行长时间试验，可采 用符合试验条件C 和D( 见3.2)要求的备用盐溶液容器； c) 使盐液雾化的手段，包括合适的喷嘴和压缩空气或者由20%氧、80%氮组成的混合气体(应 防止诸如油和灰尘 等杂质随气体进入雾化器中); d) 试验箱应能加热和控制 e) 在高于试验箱温度的某温度下，使空气潮湿的手段； f) 空气或惰性气体于燥器； g) 1 倍~3 倍、10 倍~20 倍和30 倍~60 倍的放大镜。 3 程序 3.1 试验箱的维护和初始处理 试验箱的清洗是为了保证把会对试验结果产生不良影响的所有物质清除出试验箱。使试验箱 工作在(35±3)℃ ，用去离子水或蒸馏水进行必要的清洗。每当容器里的盐溶液用完时，就应当清洗试验箱。 某些试验可能在清洗 之前进行，这取决于盛盐溶液的容器的大小和所规定的试验条件(见3.2)。当需要做长时间 试验(见3.2 的试验 条件C 和D)时，盛盐溶液的容器可采用备用的容器来补充，以便试验不中断。清洗后，试 验箱开始工作时，盐溶 学 海 无 涯 液应补满该容器，并且应对试验箱进行适当地控制，使其温度稳定(见3.1.4)。如果试验箱 中断工作超过一个 星期，即使还留有盐溶液，也应废弃。而且试验箱在重新开始工作之前应当进行清洗。如果 盐溶液的pH 值和浓度 保持在3.1.1 中规定的范围之内，允许试验箱不连续工作。 3.1.1 盐溶液 为了达到3.1.4 所要求的淀积速率，盐溶液的浓度应为0.5%~3.0%(重量百分比)的去离子水 或蒸馏水溶液。所用 的盐应为氯化钠，其碘化钠的质量百分比不得多于0.1%，且总杂质的质量百分比不得多于 0.3%。在(35±3)℃ 下测量时，盐溶液的pH 值应在6.5~7.2 之间。只能用化学纯的盐酸或氢氧化钠(稀溶液)来 调整pH 值。 3.1.2 引线的预处理 除另有规定外，试验样品不应进行预处理。当有要求时(见4c)，样品进行试验之前，器件 引线应按方法XXXX 试 验条件B1 的要求，承受弯曲应力的初始处理。如果进行试验的样品已经作为其他试验的一 部分进行过所要求的初 始处理，那么，其引线无需重新弯曲。 3.1.3 试验样品的安置 样品应按下述方位安置在固定的夹具上(有机玻璃棒、尼龙或玻璃纤维筛、尼龙绳等)。样品 应这样安置，使它 们彼此不接触，彼此不遮