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ISC
GB
中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准
GB/T XXXX - 20
idt SEMI P30-0997
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《用于测量关键尺寸（ CD）的扫描电子显微镜 (SEM)参数描述及术语规范 》
Specification for Parameter description and Terminology of critical dimension （CD ）
measurement scanning electron microscopes （SEM ）
（送审稿）/( 报批稿 )
20XX- - 发布 20XX- - 实施
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国家标准化管理委员会 发布
前言
本标准等同采用 1996 年 SEMI 标准版本 微型构图 部分中的 SEMI P30-0997 《CD 扫
描电镜 (CD-SEM)目录出版惯例》（ Practice for catalog publication of critical dimension
measurement scanning electron microscopes （CD SEM））。
SEMI 标准是国际上公认的一套半导体设备和材料国际标准， SEMI P30-0997 《CD 扫描电
镜 (CD-SEM)目录出版惯例 》是其中的一项，它将与如下已经转化的十一项国际标准 :
GB/T 15870-1995 《硬面光掩模基板》 (SEMI P1-92);
GB/T 15871-1995 《硬面光掩模用铬薄膜》 (SEMI P2-86);
GB/T 16527-1996 《硬面感光板中光致抗蚀剂和电子抗蚀剂》 (SEMI P3-90);
GB/T 16523-1996 《圆形石英玻璃光掩模基板》 (SEMI P4-92);
GB/T 16524-1996 《光掩模对准标记规范》 (SEMI P6-88);
GB/T 16878-1997 《用于集成电路制造技术的检测图形单元规范》 (SEMI P19-92);
GB/T 16879-1997 《掩模曝光系统精密度和准确度表示准则》 (SEMI P21-92);
GB/T 16880-1997 《光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则》 (SEMI P22-93) ；
GB/T 17864-1999 《关键尺寸 (CD) 计量方法》（ SEMI P24--94 ）；
GB/T 17865-1999 《焦深与最佳聚焦的测量规范》（ SEMI P25--94 ）；
GB/T 17866-1999 《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法
准则》 SEMI P23-93 ；
以及与本标准同时转化的 《光致抗蚀剂灵敏度测量所涉及的参数规范》 （SEMI P26-96 ）、
《基片上抗蚀剂膜厚度测量所涉及的参数规范》（ SEMIP27-96 ）、《集成电路制造中套刻检
测图形规范》（ SEMIP28-96 ）、《专用半透明 / 衰减移掩模版及有半透明 / 衰减膜的空白掩模
基板特性描述指南》 (SEMI P29-0997) 、 《用于测量关键尺寸（ CD）的扫描电子显微镜 (SEM)
参数描述及术语规范》（ SEMI P30--0997 ）、 《化
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