原创力文档- 1、本文档共25页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
薄膜制备
张洋洋
薄膜制备工艺包括:薄膜制备方法的
选择,基体材料的选择及表面处理,
薄膜制备条件的选择和薄膜结构、性
能与工艺参数的关系等。
薄
物理气相沉积(PVD
制备
化学气相沉积(cVD)
物理气相沉积(PvD
PVD
物理气相沉积(PVD)指的是利用某种物理的
过程,如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物
理表面原子的溅射现象,实现物质从原物质到薄
膜的可控的原子转移过程。
物理气相沉积(PvD
PVD
这种薄膜制备方法相对于下面还要介绍的化
学气相沉积方法而言,具有以下几个特点:
1需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉积过
程的源物质。
2源物质要经过物理过程进入气相
3.需要相对较低的气体压力环境。
4在气相中及衬底表面并不发生化学反应
文档评论（0）