SILVACO工艺仿真 共54页.pptVIP

;;;SIVACO TCAD 的组成： 1）、 DeckBuild实时运行环境； 2）、DevEdit2D/3D结构和网格编辑器； 3）、Athena是专业的工艺仿真系统； 4）、Atlas器件仿真系统； ;5）、Mercury是快速器件仿真系统； 6）、MaskViews版图编辑器； 7）、TonyPlot 1D/2D 交互式可视应用程序； 8）、TonyPlot 3D交互式可视应用程序；;;Atlas器件仿真系统： 1）、S-Pisces2D/Device 3D器件仿真器； 2）、TFT2D/3D高级器件技术仿真器； 3）、FERRO铁电场依赖性介电模型; 4）、Blaze/Blaze3D高级材料制作的器件仿真； 5）、LASER半导体激光二极管仿真器； 6）、VCSEL垂直共振腔面射型激光仿真；;Atlas器件仿真系统： 7）、Luminous2D/3D高级器件仿真器； 8）、MixedMode2D/3D电路仿真器； 9）、Giga2D/3D器件仿真器; 10）、Quantum器件仿真器； 11）、Noise信号仿真器； ;Atlas器件仿真系统---S-Pisces2D器件仿真器： 应用于合并了漂流扩散和能量平衡传输方程的硅化技术。它拥有大量的可用物理模型集合，包括表面/体积迁移率、复合、碰撞电离和隧道模型等。典型的应用包括MOS,双极和BiCMOS技术。所有物理模型的性能已被扩展到深亚微米器件、SOI器件和非易失性存贮器结构等。它也可计算所有可测量的电学参数。对于MOS技术，这些参数包括门极和漏极特性，亚阈值漏电，衬底电流和穿通电压。而双极技术则可预测Gummel图和饱和曲线。其他可计算的特性包括击穿行为、纽结和突返效应、CMOS闩锁效应、低温和高温操作、AC参数和本征开关时间。 ;TFT2D/3D高级器件技术仿真器： TFT2D/3D是一个高级器件技术仿真器，其物理模型和专用数字技术是模拟非晶体或包括薄膜晶体管在内的多晶硅器件所必需的。它的特殊应用包括大面积电子显示和太阳能电池。TFT2D/3D建模非晶体材料带隙里的缺陷态分布的电学效应。用户可规定活化能，以及捕捉电子和空穴的截面或寿命。用户也可修改迁移率模型、碰撞电离和带间隧道效应等，从而精确地预测器件性能。;FERRO铁电场依赖性介电模型： FERRO经开发结合了FET的电荷层模型和描述铁电薄膜的麦克斯韦第一方程。此模型可以精确地预测这些器件的静态I-V行为和瞬态与小信号模式中的动态响应。FERRO被作为S-Pisces和Blaze器件仿真器的一个选项模块使用。其无缝集成为户提供了SPisces或Blaze的全部性能，通用于各种技术。;Blaze/Blaze3D高级材料制作的器件仿真 可仿真运用高级材料制作的器件。它有一个化合物半导体库，包括了三元和四元材料。Blaze/Blaze3D的内置模型可用于渐变和突变的异质结，并且仿真如MESFETS、HEMT和HBT的结构。它可仿真所有可测量的DC、AC和瞬态器件特性。可计算的DC特性包括阈值电压、增益、泄漏、穿通电压和击穿行为。可计算的RF特性包括分界频率，s、y、h、z参数，最大可用增益，最大稳定增益，最大振荡频率和刚性系数。;LASER半导体激光二极管仿真器： Laser是世界上第一个用于半导体激光二极管的商用仿真器。Laser在ATLAS系统中与Blaze一起使用，为边缘发射Fabry-Perot型激光二极管的电学行为(DC和瞬态响应)及光学行为提供数字解决方案。;VCSEL垂直共振腔面射型激光仿真： VCSEL和ATLAS系统一起使用，为垂直共振腔面射型激光（VCSEL）生成基于物理的仿真。VCSEL结合复杂器件仿真以取得电学和热学行为以及光学行为的最新技术的模型。;Luminous2D/3D高级器件仿真器： 特别设计用于在非平面半导体器件中的光吸收和图像生成的建模。使用几何光线追踪而得到用于一般光源的准确解决方案。此特征使得Luminous2D/3D能够说明任意拓扑、内部和外部反射和折射，极化依赖性和偏振极化。Luminous2D/3D在ATLAS里完全无缝集成于S-Pisces和Blaze器件仿真器、以及其它ATLAS器件技术模块。;MixedMode2D/3D电路仿真器： 在简化分析模型之外，它还包括基于物理的器件。当没有精确的简化模型，或者有重要地位的器件必须用很高的精度来仿真时，它会运用基于物理的器件。基于物理的器件可用ATLAS产品的组合来仿真。基于物理的器件与遵循SPICE网表格式的电路描述放置在一起。MixedMode2D/3D的