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薄膜厚度及其折射率的测量方法综述 黄丽琳 ( 楚雄师院物理与电子科学系 云南 楚雄 675000) 摘要：介绍了椭圆偏振法、棱镜耦合法、干涉法、 V-棱镜法和透射谱线法测量薄 膜厚度和折射率的基本原理和仪器组成， 并分析了它们的特点及存在问题， 指出 选择测量方法和仪器应注意的问题。 关键词：椭圆偏振法；棱镜耦合法；干涉法；膜厚；折射率 中图分类号： O484．5 一、引言 近年来 ,非线性光学聚合物薄膜及器件的研究已成为非线性光学材料领域的 研究热点。非线性光学聚合物薄膜具有多种优点，如快速响应、大的电光系数、 高的激光损伤阈值、 小的介电常数、 简单的结构、 低损耗和微电子处理的兼容性 等，因此正逐渐成为制造电光调解器和电光开关的重要材料 【1】 。 薄膜技术是当前材料科技的研究热点，特别是纳米级薄膜技术的迅速发展 , 精确测量薄膜厚度及其折射率等光学参数受到人们的高度重视。 由于薄膜和基底 材料的性质和形态不同， 如何选择符合测量要求的测量方法和仪器， 是一个值得 认真考虑的问题。 每一种测量方法和仪器都有各自的使用要求、 测量范围、 精确 度、特点及局限性。 在此主要介绍测量薄膜厚度和折射率常用的几种方法， 并分 【 】 析它们的特点及存在问题，指出选择测量方法和仪器应注意的问题 2 。 二、几种测量薄膜厚度及其折射率的方法 （一）椭圆偏振法(椭偏法 ) 椭圆偏振法是利用一束入射光照射样品表面， 通过检测和分析入射光和反射 光偏振状态，从而获得薄膜厚度及其折射率的非接触测量方法。 1 r 根据椭偏方程： p t a nej f (d ,n f ,ns ,na , , ) (1) r s 若 ns ，na ， 和 已知，只要测得样品的 和 ，就可求得薄膜厚度 d 和折 射率。测量 n f 样品 和 的方法主要有消光法和光度法。光路的形式有反射式 和透射式，入射面在垂直面和水平面内两种结构。图 1( a )是反射式消光法的一 种典型结构；图 1(b )是反射式光度法的一种典型结构。 椭偏法具有很高的测量灵敏度和精度。 和 的重复性精度已分别达到± 0.01°和± 0.02°，厚度和折射率的重复性精度可分别达到 0.1 nm 和 10-4,且入射 角可在 30°～90°内连续调节，以适应不同样品；测量时间达到 ms量级，已用 于薄膜生长过程的厚度和折射率监控。 但是， 由于影响测量准确度因素很多， 如 入射角、系统的调整状态，光学元件质量、环境噪声、样品表面状态、实际待测 薄膜与数学模型的差异等都会影响测量的准确度。