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第四章 常用半导体器件原理
常用半导体器件原理(2)
PN结
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第四章 常用半导体器件原理
2.1 半导体物理基础
2.2 晶体二极管及其应用
2.3 晶体三极管原理、特性及参数
2.4 场效应管原理、特性及参数
2.5 晶体三极管及场效应管低频小信号模型
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第四章 常用半导体器件原理
2.2 PN 结--半导体器件基础
通过掺杂工艺,一边做成 P 型半导体,另
一边做成 N 型半导体,则 P 型半导体和 N 型
半导体的交接面处会形成一个有特殊物理性
质的薄层,称为 PN 结。
2.2.1 PN 结的形成
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第四章 常用半导体器件原理
空间电荷区又称为耗尽区或势垒区或阻挡层。在掺杂
浓度不对称的 PN 结中,耗尽区在重掺杂一边延伸较小,
而在轻掺杂一边延伸较大。
P 区 耗尽区 N 区 P 区 耗尽区 N 区
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