真空镀膜设备项目立项申请报告.docxVIP

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2021-02-25 发布于河北
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真空镀膜设备项目立项申请报告.docx

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真空镀膜设备项目立项申请报告一、建设背景真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺（PVD）。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中，蒸发物质的分子被电子碰撞电离后，以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。真空离子镀膜又可分为电弧离子镀、磁控溅射离子镀、空心阴极离子镀膜三种方式。真空镀膜的功能是多方面的，这