纳米薄膜的制备方法.ppt

精选ppt 二 纳米薄膜的制备方法 1 还原法 2 溅射法 利用直流或高频电场使惰性气体发生电离，产生辉光放电等离子体，电离产生的正离子和电子高速轰击靶材，使靶材上的原子或分子溅射出来，然后沉积到基板上形成薄膜。 精选ppt 真空溅射原理及方法 原理： 真空镀膜是借助高能粒子轰击所产生的动量交换，把镀膜材料的原子从固体（靶）表面撞出并放射出来。放在靶前面的基材拦截溅射出来的原子流，后者凝聚并形成镀层。 阴极发射电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与溅射气体原子发生碰撞，电离出大量的正离子和电子, 电子飞向基片, 正离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。 方法： ① 直流溅射：溅射沉积各类金属 薄膜 ② 射频溅射：溅射沉积非金属材 料（导电性差） ③ 磁控溅射：提高沉积速率 ④ 反应溅射：在溅射过程中实现 物 质之间的化学反应制备所需要 的物质薄膜。 本实验采用射频磁控溅射法在石英衬 底上沉积ZnO（靶材）薄膜 。 精选ppt 射频溅射沉积装置示意图 精选ppt 磁控溅射原理 磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。 电子在加速的过程中受到磁场洛仑兹力的作用，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内。 F=－q(E+v×B) 电子的运动的轨迹将是沿电场方向加速，同时绕磁场方向螺旋前进的复杂曲线。即磁场的存在将延长电子在等离子体中的运动轨迹，提高了它参与原子碰撞和电离过程的几率，因而在同样的电流和气压下可以显著地提高溅射的效率和沉积的速率。 精选ppt 磁控溅射靶表面的磁场和电子运动的轨迹 精选ppt JGP450型多靶磁控溅射仪 （控制箱） 精选ppt 真空溅射室及氮气等离子体辉光放电图 精选ppt 磁控溅射装置示意图 精选ppt 3 化学气相沉积法 （CVD) 利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质在基底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。 特点： CVD技术可以通过精确控制反应温度和反应时间来控制晶粒的大小，从而获得纳米复合薄膜材料。 精选ppt 三 高分子纳米材料的制备方法 (无机-有机杂化技术） 1 原位聚合 以纳米颗粒与高分子单体进行混合，单体聚合生成纳米颗粒与聚合物的杂化化材料或在与高聚物混合中生成纳米颗粒的方法。 2 插层复合 利用层状无机物（硅酸盐粘土等）作为主体，将有机高聚物作为客体插入主体的层间，从而得到有机-无机纳米复合材料。 精选ppt 四 纳米微囊制备技术 （一）纳米高分子微囊制备方法 1 乳化聚合法 2 天然高分子法 3 液中干燥法 精选ppt 什麼是乳化聚合? 在乳化剂(表面活性剂)存在下，将单体分散于水中，此时 溶液呈乳液状，再加入水溶的引发剂进行聚合反应。 精选ppt 1. 合成聚苯乙烯核。 3. 用UV光照射溶液中的粒子，開始行光乳化聚合。 2. 於核外面覆蓋一層光起始劑-HMEM。 HMEM: 2-[p-(2-Hydorxy-2-methyl- propiphenone)]ethylene- glycol 精选ppt 1. 將Ag salts加入之前製備好之高分子稀溶液中，生成銀離子。 2. 再加入 NaBH4 於上述溶液中，生成金屬銀。 精选ppt 精选ppt Ag PS Rps:75nm RAg5nm 精选ppt （二）纳米脂质体制备方法 1 超声波分散法 2 薄膜分散法 3 注入法 4 冷冻干燥法 5 逆向蒸发法 精选ppt 五 纳米碳管制备技术 1 石墨电弧放电法 2 化学气相沉积法（CVD）（催化裂解法） 3 激光蒸发（烧蚀）法 4 太阳能法 精选ppt 精选ppt 精选ppt 第三节 纳米材料表面修饰和改性 一 纳米粉体表面结构及状态 二 纳米粉体的表面及其形貌 三 纳米粉体材料的制造方法及其对表面状态的影响 （1）机械粉碎法及其纳米粉的表面特点 （2）化学法及其纳米粉的表面特点 精选ppt 四 纳米颗粒表面修饰和改性方法 （1）高分子材料对表面进行包覆 如:纳米药物磁粒子载体 （2） 偶联剂与纳米粒子表面反应，强化纳米粒子与高分子材料的相容性，如：有机硅偶联剂 （3）无机材料对纳米粒子进行包覆，有效解决纳米颗粒的单分散性，如：纳米二氧化钛粉末中加入锆的盐溶液，可