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工业用水中硅化合物的去除方法 摘 要：根据工业用水对于水质中硅含量的要求，介绍了混凝、反渗透、超滤、 微泡浮选、电凝聚、离子交换脱硅和阻垢剂抑制硅垢等方法的应用效果和各种 技术的新进展。 关键词：工业用水；硅化合物；脱除 工业用水中的硅化合物会对生产过程产生不同程度的危害。工业锅炉补给 水、地热水和冷却水的硅化合物易于形成硅垢，且形成的硅垢致密坚硬，难于 M 用普通的方法清洗，严重影响设备的传热效率以及安全运行；电子工业用水中， O C 二氧化硅会对在单晶硅表面生产半导体造成极大危害，降低电子管及固体电路 . 的质量［1］ ；在造纸工业用水中，二氧化硅含量过高，将使纸质变脆；在人造丝 G N 工业用水中，硅酸含量过高将影响纤维强度和粘胶的粘度；在湿法冶金用水中， O 硅酸含量超过一定范围将出现乳化而影响生产。为此在不同的给水处理系统中， L U 均需充分考虑硅的脱除。　 H 1 混凝脱硅 Z . 混凝脱硅是利用某些金属的氧化物或氢氧化物对硅的吸附或凝聚来达到脱 W W 硅目的的一种物理化学方法。这是一种非深度脱硅方法，一般的混凝+过滤可去 W ［2］ 除60%的胶体硅，混凝+澄清过滤可去除90%的胶体硅 。 1.1 镁剂脱硅 网 在实际的水处理过程中，常将镁剂和石灰一起使用以保证脱硅效果。 龙［3］ 镁剂脱硅的效果决定于 ： 筑 ① pH值：镁剂脱硅的最佳pH值为10.1～10.3。为保证pH值，有必要在 处理系统中加入石灰。石灰不仅有调节pH的功能，而且还可以除去部分二氧化 硅、暂时硬度和二氧化碳等。 ② 混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，通常都加混凝剂。适当的混凝剂可以 改善氧化镁沉渣的性质，提高除硅效果。一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量 为0.2～0.35 mmol/L。 ③ 水温：提高水温可以加速除硅过程，并使除硅效果提高。40 ℃时出水 中残留硅可达1 mg/L以下。 ④ 水在澄清器中的停留时间：水温为30 ℃时，实际停留时间应＞1 h， 40 ℃时约为1 h，120 ℃时为20～30 min。 ⑤ 原水水质：原水的硬度大时对镁剂脱硅的效果有利。原水中硅化合物含 量对镁剂比耗(mgMgO/mgSiO -　　3)有影响。镁剂比耗随原水硅化合物含量的 2 增加而减少，随水中胶体硅所占比例的增加而增加，一般在5～20范围内。 1.2 铝盐脱硅 ［4］ 决定铝盐